SEMICON Japan 2025

上村工業株式会社は「SEMICON Japan 2025」に出展いたします。皆様のご来場をお待ちしております。

会期 2025年12月17日(水) - 2025年12月19日(金) 10:00~17:00
会場 東京ビッグサイト
小間番号東展示棟4ホール入り口前
出展製品先端パッケージの要素技術となる微細配線や接合技術をサポートするめっき薬品・設備
複数のダイをパッケージ内に展開する「2.5D(2.XD)実装」や、垂直方向に積層する「3D実装」が注目を集めています。このようなチップレット集積の為、インターポーザへの微細配線形成技術、HBMの3次元実装の技術のための銅めっきプロセスや、ダイとインターポーザを接合するバンプめっきプロセスを提案いたします。

【製品紹介】
・エピタスEPT-H  ポスト対応電解銅めっき
・エピタスEHK-12  RDL対応電解銅めっき
・すず―銀バンプ形成対応エピタスGRD-4プロセス
・エピタスEHK-09 TSV対応電解銅めっき
・エピタスPAN-25 ウェハー対応ホルムアルデヒドフリー無電解銅めっき浴 EPITHAS PAN-25
・ウェハープロセス用液管理装置 ケミロボ 3 & スターラインダッシュ 4 NP
・UBM / PLP めっき装置 スピードプレーター

【ブース内プレゼン】
RDL対応電解Cuめっきおよび、微細バンプ形成対応電解めっきプロセス
公式WEBサイトhttps://www.semiconjapan.org/jp

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