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コンフォーマル電解銅めっき

製品名 用途 アノード 電流密度範囲(A/dm2) 特長
スルカップ ECD-H スルーホールへのコンフォーマルめっき 含りん銅/不溶解性 2~5 スルーホールのスローイングパワーが良好
スルカップ ECD-CF パターン及びスルーホールへのコンフォーマルめっき 不溶解性 1~4 スルーホールのスローイングパワー及びパターンの膜厚均一性が良好
スルカップ EMB-02 微細パターンへのコンフォーマルめっき 不溶解性 1~8 微細パターンの膜厚均一性及びパターン形状のフラット性が良好

フィリング用電解銅めっき

製品名 用途 アノード 電流密度範囲(A/dm2) 特長
スルカップ EVF-YF3 ビア及びレーザースルーホールフィリング(パネル/パターンめっき対応) 不溶解性 0.5~3.5 ビア及びスルーホールフィリングに適する
スルカップ EVF-YF4 ビア及びレーザースルーホールフィリング(パネル/パターンめっき対応) 不溶解性 1~2.5 小径ビア及びスルーホールフィリングに適する
パターンの膜厚均一性が良好
スルカップ EVF-YF7 ビア及びレーザースルーホールフィリング(パネル/パターンめっき対応) 不溶解性 1~2.5 小径ビア及びスルーホールフィリングに適する
スルーホールのボイドを抑制しパターンの膜厚均一性が良好
スルカップ EVF-YF9 ビア及びレーザースルーホールフィリング(パネル/パターンめっき対応) 不溶解性 1~2.5 大径ビア及びスルーホールフィリングに適する
薄膜厚でのフィリングが可能
スルカップ ETV-04 微細パターン+ビアフィリング(SAP用) 不溶解性 1~5 ビアフィリング性及び微細パターンの膜厚均一性が良好
スルカップ ETV-11 微細パターン+ビアフィリング(SAP用) 不溶解性 2~7 高電流密度におけるビアフィリング性及び微細パターンの膜厚均一性が良好
カグラピス EKY-10 ステップドビアフィリング(バンプ形成) 不溶解性 1~2.5 ステップドビアへのフィリング性が良好

ウェハー用電解銅めっき添加剤

製品名 用途 アノード 電流密度範囲(A/dm2) 特長
エピタス EDL-02 微細パターンへのコンフォーマルめっき(RDL用) 不溶解性 1~5 微細パターンの膜厚均一性及びパターン形状のフラット性に優れている
エピタス EHK-09 微細パターン+ビアフィリング(RDL用) 可溶性/不溶解性 1~3 ビアフィリング性及び微細パターンの膜厚均一性が良好
エピタス EPT-H 高電流密度対応銅ピラーめっき 不溶解性 5~25 ピラー高さ均一性及びピラー表面のフラット性に優れている

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