地上1年目軌道上1年目約62μｍ約312μｍ約12μｍ約100μｍ地上1年目軌道上1年目いずれも5750型チップコンデンサ（C31）電極めっき部軌道上1年目のすずウィスカの成長は異なり、表4のような違い（軌道上の方が細長く直線的なウィスカが多数発生）が確認された。また、SEM観察結果を図5に示した。なお、軌道上1年目の実験試料は超高真空（10－5Pa程度）での曝露であり、酸化や吸湿等による外観上の変化は殆どなく、製造初期からの皮膜の色調変化は殆ど確認できない。また、試験に用いた実装基板においてもすずめっき試験片（ウィスカが成長しやすいめっき品）と同様に細長い形状を示した（図6参照）。5.2コート剤処理品の評価結果（図7のSEM写真を参照）パラキシリレン系コート領域での比較結果：地上1年目と2年目および軌道上1年目共に、すずウィス長さ太さ形状発生数地上環境10～70µm程度3～8µm程度屈曲しているものが多い少軌道上環境60～360µm程度1～4µm程度直線のものが多い多表4すずウィスカ成長における地上環境と軌道上環境の相違試験片②（銅板＋Ni/Sn）と③（42alloy＋Sn）の結果図5ウィスカ形状における地上環境と軌道上環境の比較（試験片③：42alloy＋Sn）図6実装基板における地上環境と軌道上環境でのすずウィスカ形状比較UYEMURATECHNICALREPORTSNo.79.2020軌道上における鉛フリー部品のすずウィスカ実証評価（WHISKER）13
元のページ ../index.html#13