| 品 名 |
特 長・用 途 |
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使 用 条 件 |
入 目 |
| 金濃度g/L |
温
度
℃ |
pH |
| GOBEL®
2M |
アルカリ性-自己触媒浴。バッチタイプ、浴安定性良好。セラミックパッケージ等 |
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3g/L |
60℃ |
14 |
10L（2.5L×4本入） |
| ゴールリックTRA |
アルカリ性-自己触媒浴。分析管理による連続使用が可能。（分析補給コントローラー使用可）。
セラミックパッケージの量産化に対応。
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3g/L |
60℃ |
13 |
2M:
20L
1A:
10L
1C:
10L |
| オーリカルTKK |
弱酸性-置換フラッシュめっき浴。オーリカルTTT用ストライク浴。SMT基板等
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1g/L |
85℃ |
5.3 |
10L |
| ゴブライト®
TSB-71 |
下地ニッケル腐食が無い |
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1.2g/L |
85℃ |
7.2 |
A:
10L
B,M20:
20L |
| ゴブライト®
TSB-72 |
TMX-22下地用フラッシュ金めっき |
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1.2g/L |
80℃ |
7.2 |
72-M,72-R:
20L
M,A:
20L |
| ゴブライト®
TAM-55 |
弱酸性置換フラッシュめっき浴。Pbフリーはんだに対応可能 |
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2.0g/L |
80℃ |
5.2 |
TAM-55-M10:
20L
TAM-55-R:
20L |
| ゴブライト®
TCU-36 |
銅下地用フラッシュ金
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1.2g/L |
85℃ |
7.2 |
MＴ:
20L R:
5L
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| ゴブライト®
TMX-22 |
ノーシアンタイプ還元金浴
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3g/L |
50℃ |
7.0 |
M1,M2,AT,B,C,
E,F:
20L |
| ゴブライト®
TIG-10 |
高りん無電解Ni-Pめっき対応の置換金浴 |
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2.0g/L |
83℃ |
4.1 |
M,A:
20L |
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| 受注は、受注生産になります。 ※: 分析方法が異なる |
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