テクニカルレポート

創刊号~第10号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
創刊号 テクニカルレポートの発刊にあたって   社長   上村 晃史
創刊号 最近の表面処理と今後の展開   中央研究所   大高 徹雄
創刊号 めっき自動機の動向   機械事業部   佐藤 敦彦
創刊号 (抄訳)無電解ニッケルめっきの前処理       C. P.Nargi
創刊号 (抄訳)無電解ニッケルめっきの後処理       N.M.Smith
創刊号 亜鉛めっき工場へのウエムラ・トータルシステム・セールスの事例      
第2号 めっき設備のメカトロニクスの焦点 自動脱着をめぐる課題     テクニカル・レポート編集部
第2号 自動脱着ロボットのメカニズム   機械事業部   中川 佳三
第2号 (抄訳)めっきプラントに適用されるコンピューター制御システム 脱着ロボットにふれて 技術企画情報室   橋本 滋雄
第2号 (抄訳)ピロりん酸銅めっき浴による、最適プリント回路板めっき法       C.Ogden,D.Tench
第2号 酸性硫酸銅めっき浴のCVS分析 スルホニウムアルカンスルホネートをベースにした添加剤について     R.HAAK,C.Ogden,D.Tench
第2号 王先生の日本見聞録 中国と日本のめっき事情を語る 東北工学院   王 逢伊
第3号 マイクロプレートS-700及びプロセスについて   東京支店   椎名 壽康
第3号 転換期にきた、めっき産業 NEW MEKKIの新しい潮流を求めて 変ぼうするめっき産業 総合経営企画室   上野山 衛
第3号 (抄訳)パラジウムめっき硫酸浴   デグサ社   DR.F.Simon,W.Zilske
第3号 科学技術賞の受賞によせて フッソ系高分子含有ニッケル複合めっきの工業化 中央研究所   松村 宗順
第3号 電着塗装のすすめ   大阪本店   岡田 寿生
第4号 DMABを還元剤とする無電解ニッケル-ホウ素めっき   中央研究所   斉藤 昌弘
第4号 ニムコン-システム・について   中央研究所   酒井 裕允
第4号 (抄訳)EMI/RFIシールド用無電解めっきの展望 5/83 INDUSTRIAL FINISHINGより抜粋      
第4号 ニムデンの品種と適用用途   中央研究所   斉藤 昌弘
第4号 新規事業開拓の歩みと成果をふりかえって   (株)サトーセン   佐藤 光治
第5号 最近のプリント基板めっき自動機の動向   機械事業部   佐藤 敦彦
第5号 (抄訳)1980年代のプリント基板の連続的処理方法   マイクロプレート社   C.D.アイチュン
第5号 (抄訳)MPE-モジュラー処理装置   MODUL PROCESSOR社   L.Jacobson
第5号 乾式流動研磨法 SPIN MAXについて   中央研究所   松本 弘
第5号 新しいヌージン浴について   大阪本店   井川 進
第5号 韓国機械ショウ出品によせて   機械事業部   佐藤 敦彦
第6号 ごあいさつ   社長   上村 晃史
第6号 めっき技術最近の動向   甲南大学   川崎 元雄
第6号 需要開拓期にきた、これからのめっき業界   総合経営企画室   上野山 衛
第6号 座談会 新しいめっきの潮流 新製品をめぐって       テクニカル・レポート編集部
第6号 上村の歩みと技術変遷 社史「135年のあゆみ」発刊を記念して 総合経営企画室   森田 國弘
第7号 (抄訳)直接金ストライクめっきプロセス『オールナ311』 ニッケルストライクを使用せず、直接にステンレス鋼に金めっきを行う新プロセス デグサ社   DR.H.J.Lubke
第7号 (抄訳)高速金めっき浴について   デグサ社  
第7号 デグサ熔融塩白金めっきチタン電極   デグサ・ジャパン(株)   吉川 潔
第7号 パールブライトについて E法が開発されて 中央研究所   魚谷 鴻
第7号 新しい塩化亜鉛めっき『ジンコール CP プロセスについて』 硼酸を含まない、新しいカリ浴 中央研究所   久保 元伸
第7号 新しいジンケート亜鉛めっき光沢剤『SRシリーズ』について   中央研究所   森本 啓仁
第7号 これからのめっき-技術に生きる FAのトータル管理を目指す 森脇鍍金工業(株)   森脇 富治
第8号 めっき液自動管理装置『ケミロボ』   中央研究所   荒木 建
第8号 ピロリン酸銅めっき皮膜の物性研究   中央研究所   浅 富士夫
第8号 液振動法による、高速セルとケミカルズ 高速硫酸銅めっき 中央研究所   内甑 安男
第8号 陰極電着塗装法『ニューペイトン』について 当社の電着システムとめっき工場の事例 大阪本店   上村 寛也
第8号 ユータスについて ユニット・アッセンブリー・システムによる新しいめっき装置 機械事業部   佐藤 敦彦
第9号 アルミニウムへのめっき前処理法『ADプロセス』について   中央研究所   仲村 太一
第9号 無電解ニッケルめっき液『ニムデンHDX』 めっき技術を応用した高密度磁気薄膜ディスク用 中央研究所   斉藤 昌弘
第9号 自動液管理装置『ケミロボ』 メモリ用磁気ディスク無電解めっき浴 中央研究所   橋本 滋雄
第9号 プリント基板用めっきプロセス『スルカップ・プロセス』   中央研究所   出口 和夫
第9号 『アサヒスタナーシリーズ』について スズ・ハンダめっき浴光沢剤 中央研究所   久保 元伸
第9号 活性炭炉過塔について   大阪本店   辻村 三喜夫
第10号 高速めっき法とPCストリーム       テクニカル・レポート編集部
第10号 KAT-450&無電解ニッケル-金めっきプロセス 無電解金回路上接点めっき 東京支店   木曽 雅之
第10号 ノーバフ化を目指す乾式流動研磨法 SPIN MAX (横型)の開発   中央研究所   松本 弘
第10号 (抄訳)硫酸銅めっき浴からの電析物の引張特性       R.Haak,C.Ogden,
D.Tench
第10号 (抄訳)高添加剤濃度での回路基板用ピロりん酸銅 めっき浴のオペレーション       M.Jawitz,
C.Ogden,
D.Tench,R.Thompson
第10号 (抄訳)逆浸透圧法による電着塗装ラインのクローズド化   FORD自動車(株)   W.S.Springer,
G.G.Strosberg,
J.E.Anderson

第11号~第20号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第11号 プリント基板用硫酸銅めっき浴『スルカップAC-90』   中央研究所   内甑 安男
第11号 複合めっき『メタフロン』   中央研究所   松村 宗順
第11号 磁気ディスクにおける、下地めっき技術の現状と将来   中央研究所   斉藤 昌弘
第11号 (抄訳)エレクトロニクス産業における工業電気化学、その現状と将来       L.T.Romankiw
第11号 無電解めっき析出検知装置 メモリ用磁気ディスク 中央研究所   橋本 滋雄
第12号 無電解合金めっき・無電解複合めっき   中央研究所   斉藤 昌弘
第12号 (抄訳)無電解ニッケルめっきの誘導析出の研究   南京大学   F.J.Li
第12号 リードSBについて フッ素フリー半光沢ハンダめっき浴 中央研究所   久保 元伸
第12号 アルミニウム上めっき前処理法AZプロセスについて   中央研究所   仲村 太一
第13号 プリント配線板マーケットの最近の動向       テクニカル・レポート編集部
第13号 スルカップ プロセス プリント回路技術における、最近の無電解銅プロセスの動向 中央研究所   出口 和夫、桑田 能安
第13号 スルカップ AC-90 プリント回路技術における硫酸銅めっきの最近の動向 中央研究所   内甑 安男
第13号 スルカップ SL-64 プリント回路技術におけるハンダめっきの最近の動向 中央研究所   久保 元伸
第13号 ケミロボ エレクトロニクス分野における、めっき浴の自動管理技術の最近の動向 中央研究所   橋本 滋雄
第13号 プリント配線板 めっき装置の最近の動向   機械事業部   中川 佳三
第13号 ケミロボ・ジュニア-NPについて 無電解ニッケルめっき自動液管理装置 中央研究所   寺岡 忠儀
第13号 日本材料学会腐食防食部門委員会 第134例会   中央研究所   小若 正倫
第14号 化学反応が作る金属薄膜 無電解めっき膜による機能材料の創造 早稲田大学   逢坂 哲彌
第14号 フッ素フリー光沢ハンダめっき浴『リードKT、KT-H』について   中央研究所   久保 元伸
第14号 超高均一電着性ニッケルめっき浴『スルニック浴』について   中央研究所   村上 透、魚谷 鴻
第14号 亜鉛めっきウイスカー防止用添加剤『アサヒジンケルZ-70H』について   中央研究所   森本 啓仁
第14号 台湾に2合弁会社を設立     テクニカル・レポート編集部
第15号 新しい表面処理と応用   中央研究所   大高 徹雄
第15号 高物性無電解銅『ELC-UM』   中央研究所   桑田 能安
第15号 『ケミロボ-Jr』シリーズについて 滴定分析の機能をもつ自動液管理装置 中央研究所   寺岡 忠儀
第15号 フッ素樹脂を含む複合めっきの特長と日本での工業化について   中央研究所   松村 宗順
第15号 座談会 "中国の研修生は語る" 日本の印象と中国の表面処理産業の現状と未来     テクニカル・レポート編集部
第16号 世界の経済情勢とめっき業界の今後の展望   社長   上村 晃史
第16号 電磁波障害の規制と『エラメット法』について   相模原工場   岡田 寿生
第16号 小径スルホール用厚付け下地無電解銅めっき浴『スルカップELC-SP』   中央研究所   出口 和夫
第16号 国際規格ISO4516-1980 金属皮膜等のビッカース及びヌープ微小硬さ試験        
第16号 ハードディスク用Ni-Cu-Pめっき皮膜の量産化技術に関する検討   中央研究所東京分室   松井 富士夫、中山 郁雄
第17号 耐食性非晶質合金めっきの展望   中央研究所   小若 正倫
第17号 高純度厚付け無電解金めっき液『GOBEL』   中央研究所   斉藤 昌弘、高見 秀幸、木曽 雅之
第17号 (抄訳)金めっきの色   University of Aston   D.J.Arrowsmith
第17号 西ドイツの複合めっき事情   中央研究所   松村 宗順
第18号 140周年を迎えて   社長   上村 晃史
第18号 (抄訳)水溶性レジスト処理のプリント基板に対する金めっきプロセス   Degussa Corporation   Dr.J.Deuber,
Dr.H.Lubke,
Dr.F.Simon
第18号 (抄訳)パターンめっきプリント配線板の均一電着性における回路形状の影響   Bell Laboratories   D.A.Rudy
第18号 大阪本社新社屋建設について   専務取締役   西田 滋三
第18号 中央研究所設立20周年と記念論文集出版にあたって   取締役   大高 徹雄
第18号 台湾の経済情勢と台湾上村股份有限公司の近況   台湾上村股扮有限公司   田中 康弘
第19号 EE-1プロセスについて   中央研究所   山本 泰之
第19号 セラミックスへのめっきプロセス   中央研究所   仲村 太一
第19号 結晶構造が微細でボンディング性に優れた金めっき浴『オールナ 557』   東京支社   椎名 壽康、鬼頭 孝憲
第19号 ニッケルと銅の分離定量分析   中央研究所東京分室   松井 富士夫、中山 郁雄
第20号 めっきの結晶学と非晶質めっき   東京都立大学   渡辺 徹
第20号 ウエムラの無電解ニッケルめっき薬品製品群   中央研究所   斉藤 昌弘
第20号 小型電着塗装システムについて   中央研究所   鈴木 祥一郎
第20号 (抄訳)電流分布の改善方法   French National Center   R.H.Rousselot

第21号~第30号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第21号 無電解ニッケル-リン/PTFE複合めっき『ニムフロン』   中央研究所   松村 宗順
第21号 低融点、高融点はんだめっき浴『ソフトアロイLM、HM浴』について   中央研究所   森本 啓仁
第21号 小型電着塗装システムについて   中央研究所   鈴木 祥一郎
第21号 (抄訳)電磁波シールドのための無電解めっき皮膜の比較       J.Hajdu,
G.Krulik
第22号 機能的用途に用いられる″合金めっき″   大阪市立工業研究所   榎本 英彦
第22号 無電解ニッケルめっき自動液管理装置『スターラインダッシュ NP』   中央研究所   吉川 一紀
第22号 (抄訳)ハルセルにおける二次電流分布 境界要素法と有限要素法によるシミュレーションと実験による検証     M.Matlosz,
C.Creton,
C.Clerc,
D.Landolt
第22号 SUR/FIN′90に参加して   中央研究所東京分室   松井 冨士夫
第23号 厚付け無電解はんだめっき『ビームソルダー PC』プロセスについて   中央研究所   久保 元伸
第23号 高速めっきへのアプローチ『高速亜鉛めっき法』について   中央研究所   浅川 清
第23号 無電解ニッケル・りん合金めっきの応用 高温高濃度苛性ソーダ中での耐食性 中央研究所   内田 廣記
第24号 電析非晶質合金めっきの最近の発展   中央研究所   小若 正倫
第24号 硫酸はんだめっき『ニューソルダー GC』   中央研究所   梁田 勇
第24号 電解槽の電流分布シミュレーション(1) めっき液の性質と電流分布 中央研究所   小原 勝彦
第24号 電解槽の電位分布と電流分布   中央研究所   日根 文男
第24号 給排システムについて   中央研究所   立花 真司
第25号 電着塗装の概要(Ⅰ)   中央研究所   鈴木 祥一郎
第25号 CB研磨技術   中央研究所   松本 弘
第25号 最近の洗浄剤の環境対策について 溶剤代替洗浄剤について 開発技術研究所   岡田 哲朗
第25号 アルミニウムのエッチング速度の測定方法   中央研究所   川崎 正悟
第26号 商標制度の概要   中央研究所   苫篠 恵子
第26号 電解槽の電流分布シミュレーション (2) 電流分布改善手法について 中央研究所   小原 勝彦
第26号 ニムデンSHDXの開発とHDD業界の現状 ハードディスク下地用めっき 中央研究所   佐藤 誠
第26号 電鋳による金の中空宝飾品の製造 AURUNA-FORM アウルナ・フォーム 東京支社   椎名 壽康
第26号 SUR/FIN'92に参加して   UIC   松井 冨士夫
第27号 表面処理から見たTAB技術   中央研究所   木曽 雅之
第27号 電解槽の電流分布シミュレーション (3) 解析事例 中央研究所   小原 勝彦
第27号 電着塗装の概要(・)   中央研究所   鈴木 祥一郎
第27号 ハードディスク前処理給排システムについて   中央研究所   下村 友二、立花 真司
第27号 高耐食性の厚付け銅錫スペキュラム合金めっき浴とニッケル・アレルギーついて Miralloy 843, ミラロイ843 東京支社   椎名 壽康
第27号 薄付け化学銅浴『PSY』   中央研究所   桑田 能安
第27号 工業所有権を巡る諸問題(米国編)   技術本部   古井 剛史
第28号 連続PWBめっき装置   中央研究所   佐藤 敦彦
第28号 光通信システム   システム開発部   山崎 茂雄
第28号 超光沢無電解ニッケルめっき液 『ニムデン NBX』   中央研究所   中村 孝之
第28号 非晶質Fe-Cr-Ni-P合金めっき膜の作製とその分極挙動   中央研究所   李 明、小若 正倫
第28号 電析非晶質NI-Cr-P合金皮膜の耐食性   中央研究所   傅 燕雲、小若 正倫
第28号 コプキア MAP-4K について   中央研究所   岡田 哲朗
第28号 繊維状活性炭カートリッジによるめっき液の浄化   ユニチカ(株)中央研究所   米原 智子
第29号 電着塗装の概要(・)   中央研究所   鈴木 祥一郎
第29号 プリント配線板用電着レジスト処理装置   第二工場、中央研究所   木田 裕蔵、鈴木 祥一郎
第29号 めっき装置によるスケジューリング制御   システム開発部   桐畑 忠和
第29号 蛍光X線によるFePめっき皮膜の膜厚およびPwt%の測定   中央研究所   内田 廣記
第29号 アルミニウム上めっき前処理による表面形状変化について   中央研究所   下村 友二
第29号 EMIの現状とエラメットプロセス   相模原工場   岡田 壽生
第29号 ニッケル光沢剤『マイヤマスター』   中央研究所   家治 友美、村上 透
第30号 第30記念号の発行に際して   中央研究所   仲村 太一
第30号 めっきでできる高機能皮膜   中央研究所   仲村 太一
第30号 プリント配線板と最新のめっき技術   日立製作所 日立研究所 材料第1部 赤星 晴夫
第30号 実装技術におけるプリント基板表面処理技術の動向   三菱電機(株) 生産技術センター実装技術部 藤田 実
第30号 半導体用パッケージと最新のめっき技術   新光電気工業(株) 第一開発部 若林 信一
第30号 テクニカルレポートの歩み   テクニカルレポート編集部    

第31号~第40号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第31号 磁性材料と新しい機能めっき   早稲田大学理工学部   逢坂 哲彌、黒川 義昭
第31号 環境問題の最近の状況   関西化学工業協会 常務理事 松岡 昭
第31号 電着塗装の概要Ⅳ   中央研究所   鈴木 祥一郎
第31号 無電解ニッケル複合めっきの皮膜特性   技術本部 技術企画室   松村 宗順
第31号 フロースループレーター RP-1 高速回転式バレルめっき装置 中央研究所   トーマス・グリエゴ、杉浦 裕
第31号 スターラインダッシュ NP 無電解ニッケルめっき用自動めっき液管理装置 技術本部 システム開発部   吉川 一紀
第32号 リードフレームめっきの最新の技術動向   新光電気工業(株) 第1リードフレーム事業部 村田 明彦、若林 則男
第32号 海洋投棄規制に対するめっき廃液処理技術の動向   (社)表面技術協会 無電解めっき懇談会 神戸 徳蔵
第32号 硫酸塩浴電気はんだめっき「ニューソルダーGC」の連続搬送による高速めっき   中央研究所   梁田 勇、清水 宏治
第32号 EE-1プロセス ダイレクトプレーティング 中央研究所   森本 修史
第32号 ニムフロンFRS(PTFE高含有タイプ) 無電解Ni複合めっき液 中央研究所   千葉 格、赤木 比子
第32号 Uconについて PWBラックレス連続搬送めっき装置 中央研究所   松岡 修二
第33号&第34号 表面処理における解析技術   (株)松下テクノリサーチ 材料試験部 日置 康弘
第33号&第34号 ハードディスク下地めっきにおけるノジュールの発生原因の検討   中央研究所   中山 郁雄、下村 友二、能津 雅浩
第33号&第34号 めっきの皮膜欠陥の解析   中央研究所   南 幸江、堀田 佳子、仲村 太一
第33号&第34号 オーリカルT プロセス   中央研究所   内田 廣記
第33号&第34号 ノーシアン中性無電解金めっき浴「ネオラム」について   中央研究所   村上 透、辻本 雅宣、森本 啓仁、家治 友美
第35号 製造物責任(Product Liability,PL)対策について   総合企画室   松村 宗順
第35号 最新レーザー表面処理技術 プラスチックス基板の表面改質からふっ素樹脂の無電解めっきまで 工業技術院物質工学工業技術研究所   矢部 明、新納 弘之
第35号 ハードディスク下地めっき浴の長寿命化   中央研究所   斉藤 昌弘、中山 郁雄、高見 秀幸、安達 由紀
第35号 苛性アルカリ水溶液へのタングステンの溶解   中央研究所   岡田 哲朗
第35号 電着塗装の概要Ⅴ   中央研究所   鈴木 祥一郎
第36号 めっき装置の変遷   第二工場   濱田 良介
第36号 めっき装置制御機器、めっき液管理装置の動向   中央研究所   桐畑 忠和
第36号 電解槽の電流分布解析ソフト"膜厚案内人"   中央研究所   小原 勝彦
第36号 EPMAによる銅亜鉛合金の塗膜下腐食生成物の分析   中央研究所   福井 洋一
第36号 長寿命無電解ニッケルめっき液「ニムデンNEL」   中央研究所   佐藤 誠、葛原 章
第36号 リジタイトESCめっき (不溶性陽極を用いた電解Ni-P/SiC高速複合めっき) 中央研究所   千葉 格、門田 宏治
第37号 めっきの溶液化学   京都大学 大学院工学研究科 材料工学専攻 粟倉 泰弘
第37号 めっきの電気化学   中央研究所   松井 冨士夫
第37号 めっき皮膜の形成と形態   中央研究所   村上 透
第37号 電解槽工学の立場から見た金属析出反応操作   中央研究所   日根 文男
第37号 めっきの性能(特性)と応用   本店営業部 営業技術グループ 奥田 二朗
第38号 電子デバイスにおける無電解ニッケルめっき   沖電気工業株式会社 研究開発本部 澤井 秀夫
第38号 半導体パッケージ対応の置換厚付け金めっきプロセス   中央研究所   木曽 雅之
第38号 電着塗装の概要Ⅵ   中央研究所   鈴木 祥一郎
第38号 水系洗浄剤(ギルライトシリーズ)と洗浄装置(ミジリフシリーズ)   マンギルプロジェクトチーム   松村 宗順、仲村 太一、法月 正恒
第39号 鉛を含まない錫合金はんだ(鉛フリーはんだ)   中央研究所   梁田 勇
第39号 複合めっき皮膜の機能性とその応用   中央研究所   千葉 格
第39号 フロースループレーターの実施例   中央研究所   杉浦 裕
第39号 ネオラムプロセスについて   中央研究所   家治 友美、村上 透
第40号 表面処理における防食設計と防食管理   中央研究所   日根 文男
第40号 耐食プラスチックによる防食技術   樹脂ライニング工業会 会長 山崎 昇
第40号 めっき前処理装置の腐食損傷事例   中央研究所   仲村 太一
第40号 無電解Niめっき装置の腐食損傷例   中央研究所   中山 郁雄
第40号 電気めっき設備の腐食損傷例とその対策   中央研究所   松井 冨士夫

第41号~第50号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第41号 めっき工業における不溶性陽極の応用とその可能性   中央研究所   松井 冨士夫
第41号 世界のめっき工業事情 ドイツにおける電気めっき分野の進展(1997) ベルリン、GUV mbH 教授 Hans-W. Lieber
第41号 世界のめっき工業事情 米国におけるプリント配線基板市場の動向 ウエムラ インターナショナル コーポレーション   Anthony R. Revier
第41号 世界のめっき工業事情 アジアのめっき業界の動向 韓国 韓国KPM駐在   浅川 清
第41号 世界のめっき工業事情 アジアのめっき業界の動向 台湾 大阪営業技術グループ   石丸 篤朗
第41号 世界のめっき工業事情 アジアのめっき業界の動向 香港 上村旭光有限公司   椎名 壽康
第41号 世界のめっき工業事情 アジアのめっき業界の動向 ASEAN諸国 ウエムラ インターナショナル シンガポール   上野 文昭
第41号 世界のめっき工業事情 アジアのめっき業界の動向 日本 社団法人 日本表面処理機材工業会   野々村 哲男
第41号 世界のめっき工業事情 別表 アジアと欧州諸国の社会資本構造一覧(1997年9月) テクニカルレポート編集部    
第41号 テクニカルレポート 掲載内容一覧表   テクニカルレポート編集部    
第42号 各種規格とめっき皮膜の評価   中央研究所   櫻谷 静佳
第42号 めっき作業の管理   東京支社営業技術グループ   田中 敏徳、寺岡 忠儀
第42号 BGAパッケージとはんだボール接合強度   中央研究所   中村 孝之
第42号 無電解ニッケルめっきによる下地層形成における表面欠陥に関する観察結果   中央研究所   下村 友二
第42号 最近の研磨事情   中央研究所   松本 弘
第42号 上村工業における技術成果   中央研究所   仲村 太一
第43号 走査型プローブ顕微鏡による材料開発の夢 電気化学原子層エピタクシー法による新材料創製 大阪大学大学院工学研究科 マテリアル応用工学専攻 平井 信充、原 茂太
第43号 電析金属の結晶化過程   中央研究所   村上 透
第43号 throwing power   中央研究所   日根 文男
第43号 めっき液の分析   中央研究所   内田 廣記
第43号 電鋳金型の現状と将来   (株)イケックス工業   竹田 博昭
第43号 電着塗料の加熱残分測定方法   中央研究所   立川 光石、土家 和代、福井 洋一、鈴木 祥一郎
第43号 洗浄と環境規制について   マンギルプロジェクトチーム   松村 宗順、仲村 太一、法月 正恒
第44号 環境保全と労働安全問題   管理本部   中川 佳三
第44号 表面処理工業における環境保全   営業本部   淺 富士夫
第44号 表面処理工業における労働環境の改善   情報本部、中央研究所   奥田 二朗、松岡 修二
第44号 無電解ニッケルめっき浴の再生と循環   中央研究所   松井 冨士夫
第44号 特許権の効力が及ぶ範囲について (特許で誰が保護されているのか) 管理本部   古井 剛史
第44号 薄板PWB対応ラックレス連続めっき装置「Ucon」 (開発の経緯と現状および今後の展望) 中央研究所   清水 宏治
第45号 ゾル-ゲルコーティング   福井工業大学   作花 済夫
第45号 最近の溶射技術と機能皮膜製品への適用化   トーカロ(株)   原田 良夫
第45号 機能性酸化チタン   テイカ(株)   安原 正
第45号 電解槽の電流分布シミュレーション(4) -解析事例と結果表示の紹介- 中央研究所   小原 勝彦
第45号 エレクトロニクス工業における電気化学反応操作   IBM Fellow,T.J.Watson Research Center   L.T.Romankiw
第45号 立体配線のための新加工技術 -デバイス平坦化CMP技術とMID射出立体配線- 豊田工業大学、日本工業大学   中川 威雄、野口 裕之
第45号 めっき薬品の小型プラスチック容器の再使用について   枚方化成品工場   酒井 裕允
第46号 電子部品・材料の腐食   三菱電機(株)   瓦井 久勝
第46号 電子部品・デバイスの環境試験における腐食損傷事例   (株)松下テクノリサーチ   徳桝 弘幸、金田 諭、中井 宗明
第46号 エンジニアリングの立場からのめっき皮膜の耐食性   中央研究所   村上 透
第46号 腐食の角度から見た無電解ニッケル/無電解金めっきのはんだ接合   中央研究所   久保 元伸
第46号 ハードディスク用ガラス基板上への無電解Ni-Pめっきプロセス (MGDプロセス) 中央研究所   多田 雅徳
第46号 ビルドアップ工法に適した無電解銅めっき"Thru-Cup PEA"   中央研究所   堀田 輝幸、桑田 能安
第47号 粘着性の剥離速度依存性   日東電工(株)   浦濱 圭彬
第47号 薄膜の機械的性質とその試験法   京都大学大学院工学研究科   駒井 謙治郎
第47号 X線解析法を用いた薄膜の応用測定   (株)島津製作所   藤原 忠幸、関口 晴男
第47号 めっきの密着性   枚方化成品工場   仲村 太一
第48,49合併号 チタンの表面処理   社団法人日本チタン協会   諸石 大司
第48,49合併号 マグネシウムの表面処理   千葉工業大学 精密機械工学科 高谷 松文
第48,49合併号 アルミニウムの表面処理   平山技術士事務所   平山 良夫
第48,49合併号 無電解銅めっき液用自動液管理装置 ケミロボ2ELC   中央研究所   石嵜 隆浩
第48,49合併号 プリント基板用、高均一性電気ニッケルめっき スルニックAMT   中央研究所   家治 友美
第48,49合併号 無電解ニッケルめっき用自動めっき液管理装置 スターラインダッシュ3   製造本部   木戸 康裕
第48,49合併号 無電解ニッケルめっきにおける亜りん酸塩の制御   中央研究所   松井 冨士夫
第48,49合併号 電着塗装の初期課程   "上村工業(株)中央研究所※1京都大学エネルギー理工学研究所※2"   "鈴木 祥一朗※1、※2、福井 洋一※1、土家 和代※1、尾形 幸生※2"
第50号 第50号記念号発行するにあたり   上村工業株式会社 代表取締役社長   上村 寛也
第50号 文化財と表面処理 古代めっき技術 (財)元興寺文化財研究所 保存化学センター 増澤 文武
第50号 集積回路とめっき技術   京都大学大学院工学研究科材料工学専攻   粟倉 泰弘
第50号 表面処理・めっき技術の展望   早稲田大学理工学部   本間 敬之
第50号 表面技術の展望:乾式技術   東京大学生産技術研究所   光田 好孝
第50号 アルミニウム表面技術の展望   北海道大学大学院工学研究科   高橋 英明
第50号 湿式製膜法による太陽電池製造への道   大阪市立工業研究所   伊崎 昌伸
第50号 表面技術の展望   名古屋市工業研究所   久米 道之
第50号 紫外レーザープロセスによる表面改質   産業技術総合研究所   矢部 明
第50号 めっきプロセスへのイオン交換膜の導入 環境に対応するめっき技術 大阪府立産業技術総合研究所   横井 昌幸
第50号 超微細な世界   株式会社ヒキフネ   小林 道雄
第50号 表面技術の展望   大高技術士事務所   大高 徹雄
第50号 21世紀に期待できる表面技術の展望 サプライヤーとしての役割 中央研究所   魚谷 鴻
第50号 表面処理技術(シミュレーション)の展望   中央研究所   小原 勝彦
第50号 中央研究所における計測機器の事例集   中央研究所    
第50号 めっき設備の変遷   中央研究所   松岡 修二

第51号~第60号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第51号 無電解ニッケルめっき 基礎と文献傾向 中央研究所   佐藤 誠
第51号 無電解貴金属めっき -金めっきを中心として- 中央研究所   村上 透
第51号 高速で付きまわりの良好な無電解Ni-Pめっき液 ニムデンNEL Ver.3   中央研究所   葛原 章、川上 浩
第51号 はんだ実装対応無電解フラッシュ金めっき浴 ゴブライトTSB-71   中央研究所   木曽 雅之
第51号 無電解めっき浴の再生とその意義   中央研究所   松井 冨士夫
第51号 鉛フリーSn-Cuはんだめっき液 ソフトアロイGTC   中央研究所   梁田 勇、辻本 雅宣、岡田 哲朗、村上 透
第52号 シリコン表面の陽極多孔質化表面処理   京都大学エネルギー理工学研究所   尾形 幸生
第52号 乾式流動研磨に関する研究   "上村工業(株)中央研究所※1(株)ワイドマン技術部※2"   "有田 了※1、山本 重幸※2、井伊 直智※2、鈴木 祥一郎※1"
第52号 PWB垂直搬送式電気銅めっき装置 Ucon-Jrについて 枚方機械工場   木田 裕蔵
第52号 無電解Ni-Pめっき新製品シリーズ紹介 「ニムデンNKY、NBB、NDX」 中央研究所   佐藤 誠、斉藤 昌弘
第52号 発表文献紹介 ①無電解Ni-Pめっき浴の定常状態反応操作   "台湾上村(股)※1中央研究所※2情報管理部"   "松井 冨士夫※1、川崎 正悟、稲川 拡※2"
第52号 発表文献紹介 ②高均一電着性ニッケルめっきとその応用   "上村工業(株)※、Uyemura International Corporation"   "村上 透※、Donald Gudeczauskas、David Liston、Michael Moffatt"
第53号 フォトルミネッセンス法によるシリコン結晶中銅の高感度分析の検討と銅発光センターの構造   元(株)日立製作所 日立研究所   中村 稔
第53号 無電解銅めっきの現状と応用   中央研究所   堀田 輝幸
第53号 プリント配線板用置換銀めっき処理の紹介 「プレサRGA-14」 中央研究所   上玉利 徹、稲川 拡
第53号 ディスプレー用透明電極向け 無電解酸化亜鉛めっき   中央研究所   西條 義司、田邉 克久、村上 透
第54号 エレクトロニクス配線用 無電解銅めっき技術の現状   (株)日立製作所 日立研究所   赤星 晴夫
第54号 セミアディティブ法によるビルドアップ基板製造のための無電解銅めっき液   中央研究所   堀田 輝幸、桑田 能安
第54号 プリント配線板用垂直連続搬送式電気めっき装置 Ucon-jr   中央研究所   清水 宏治
第54号 エピタス プロセスの紹介   中央研究所   吉川 一紀、内田 廣記
第54号 半導体パッケージング基板用無電解金めっきの紹介 「ゴブライトTMX-22」 中央研究所   藤裏 裕之、松本 修
第54号 FIB装置の紹介   セイコーインスツルメンツ(株) 科学機器事業部 岩崎 浩二
第55号 鉛フリーはんだとNiめっきとの界面反応と組織   大阪大学産業科学研究所   菅沼 克昭、黄 致元
第55号 無電解Niめっきの環境負荷軽減技術   中央研究所   佐藤 誠
第55号 無電解Ni-Pめっき液「ニムデンNKY」シリーズ ニムデンNKY Ver.2、ニムデンNKY Ver.3 中央研究所   吉田 順治
第55号 OSP(Organic Solderability Preservative)工程用マイクロエッチング液「プレサMTP-2G」の紹介   中央研究所   上玉利 徹、西條 義司
第55号 高いコストパフォーマンスを持つ自動縦型めっき装置の開発 (Cu埋め込み用めっき装置の低価格化追求) 日立協和エンジニアリング(株)   牧 琢己
第56号 有害重金属フリー 無電解ニッケルめっき浴について   中央研究所   多田 雅徳
第56号 ソフトアロイSn-Cu合金めっき皮膜の接圧ウィスカー抑制方法   中央研究所   岡田 哲朗、久保 元伸、梁田 勇、辻本 雅宣、家治 友美
第56号 無電解銅めっき「スルカップPEA Ver.3」   中央研究所   堀田 輝幸
第56号 無電解銅めっき用前処理プロセス「アルカップ」の紹介   中央研究所   山本 久光
第56号 携帯電話基板向け高りんENIGプロセス -ニムデンNDF-2/ゴブライトTIG-10- 中央研究所   "能津 雅浩、葛原 章、林 淳子
小田 幸典、中村 孝之"
第56号 伸び行く企業 サミックス   "大阪本店営業部
国際営業G"
  "若槻 卓志
木田 裕蔵"
第57号 めっき析出の分子シミュレーション   "京都大学大学院
金沢大学大学院
中央研究所"
情報学研究科
自然科学研究科
"金子 豊、三上 崇志
樋渡 保秋
小原 勝彦"
第57号 すず、すず-銅合金めっき皮膜用熱変色防止後処理剤 ソフトアロイMTC-7N 中央研究所   梁田 勇、辻本 雅宣
第57号 汎用めっき薬品ユープロシリーズ   枚方化成品工場   村上 透、前田 亮、仲村 太一
第57号 樹脂成型品への装飾めっき ラクシュプロセス "大阪営業部
上村化学(上海)"
  "志水 健
何 志剛"
第57号 量産型電気めっき装置/フロースループレーターRP-FA -微小チップ部品対応- "枚方営業本部
中央研究所"
  "佐藤 隆
杉浦 裕"
第57号 ウエムラグループのASEAN地域への対応   経営企画部   奥田 二朗
第58号 ナノサイズ微粒子を利用した微細配線技術   甲南大学理工学部機能分子化学科   縄舟 秀美、赤松 謙祐
第58号 薄付け無電解銅めっき「スルカップPGT」   中央研究所   堀田 輝幸
第58号 置換型無電解金めっき浴「ゴブライトTAM-55」   中央研究所   村角 明彦、小田 幸典
第58号 フレキシブル基板への無電解Ni-Pめっき   中央研究所   多田 雅徳、岩宮 陽子、木曽 雅之
第58号 PFOS化合物の規制とめっき技術   中央研究所   千葉 格
第59号 EUにおける環境規制の動向とその影響   日本電子(株)   松浦 徹也
第59号 Ni-P/Pd/AuおよびNi-P/Au皮膜上へのSn/Ag/Cuはんだ接合における接合界面の観察   中央研究所、営業本部※   小田 幸典、木曽 雅之、橋本 滋雄※
第59号 環境から見ためっき装置   営業本部   大村 泰基
第59号 重金属フリー無電解Ni-Pめっき製品の紹介   中央研究所   吉田 順治
第59号 ウエムラグループの中国への対応   経営企画部   奥田 二朗
第60号 ダイレクトめっきプロセスの紹介   中央研究所   山本 久光
第60号 有害重金属フリー無電解Ni-Bめっき製品の紹介   営業本部   清水 浩一郎
第60号 環境規制対応無電解Ni-P/PTFE複合めっき   中央研究所   井上 東彦
第60号 枚方工場近代化第2期工事について   枚方化成品工場   酒井 裕允
第60号 ダイレクトめっきプロセス"LACUSHU(ラクシュ)-D"   サムハイテックス   近藤 宏毅、岡田 哲、土井 希彦

第61号~第70号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第61号 計算機シミュレーションによるめっきの原子プロセスの解析   京都大学大学院情報学研究科   金子 豊
第61号 フロースループレーター用中性半光沢Snめっき液「NTB-301」   台湾上村(股)有限公司 台湾研究所 呉 昌龍、佐藤 誠
第61号 ウィスカ抑制電気Snめっき液「ティナデスGRX-70」の紹介   中央研究所   辻本 雅宣、梁田 勇
第61号 上村旭光化工机械(深セン)有限公司の新本社工場の紹介   上村旭光化工机械(深圳)有限公司   三木 敏
第61号 表面処理と知的財産制度   法務部   古井 剛史
第62号 すずウィスカ発生のメカニズムと対策の現状   大阪大学産業科学研究所   菅沼 克昭
第62号 水平搬送装置対応ダイレクトめっき「PDMTプロセス」   中央研究所   山本 久光
第62号 水平搬送装置用無電解銅めっき液「スルカップPMK」の紹介   中央研究所   中山 智晴
第62号 水平搬送めっき装置の現状   中央研究所   淺 富士夫
第62号 台湾研究所の紹介   台湾上村(股)/台湾上村科技(股)   佐藤 誠
第62号 SUM HITECHS F-4工場について   (株)SUMIX   上村 智之
第62号 全自動バレルめっき装置/フロースループレーターRP-2   中央研究所   杉浦 裕
第63号 透過型電子顕微鏡を使ったすずめっき膜構造の解析   東北大学多元物質科学研究所   寺内 正己、佐藤 二美
第63号 シアンフリー金めっき液を用いた無電解Ni-P/Pd/Auプロセスの紹介 -シリコンウエハへの適用- 中央研究所   柴田 利明
第63号 パラジウム下地置換-還元型無電解金めっき浴の紹介 「ゴブライトTWX-40」 中央研究所   黒坂 成吾、小田 幸典
第63号 プリント基板用置換すずめっき処理の紹介 「プレサRMK-30」 中央研究所   前田 剛志、上玉利 徹
第63号 重金属フリー無電解Ni-Pめっき製品「ニムデンKFJ-20」の紹介   中央研究所   橋本 大督
第63号 中研測定機器紹介 FE-SEM 「ULTRA55」   中央研究所   下村 友二
第63号 新東京支社ビルの紹介        
第64号 貴金属ナノロッドの電析によるAIアノード酸化膜のマルチカラー化   近畿大学理工学部   伊藤 征司郎
第64号 プリント基板用 硫酸銅めっき添加剤 スルカップEVF-TF スルカップEVF-UF 中央研究所   清水 宏治
第64号 ウィスカ抑制電気Snめっきプロセス ―ティナデスGRXプロセスの紹介― 中央研究所   辻本 雅宣、上玉利 徹
第64号 パラジウム剥離剤 PDS-120   台湾研究所(Taiwan Research Laboratory)   佐藤 誠、鄭 振權、鍾 秉璋
第64号 USC技術センター紹介   上村化学(上海)有限公司   山本 泰之
第64号 中研測定機器紹介 収束イオンビーム装置「SMI2050」   中央研究所   下村 友二
第65号 フレキシブル基板に対応した無電解ニッケル/金プロセスの紹介   中央研究所   前田 剛志、小田 幸典
第65号 高速電気Snめっき液 「ティナデスGHS-51」の紹介     加納 俊和
第65号 ロープロファイル基板用セミアディティブ・デスミアプロセス アップデスプロセスの紹介 中央研究所   西條 義司、山本 久光
第65号 硫酸銅めっき添加剤 スルカップECD-Hの紹介 中央研究所   大村 直之
第65号 めっきにおける流体解析   中央研究所   佟 立柱、小原 勝彦、淺 富士夫、杉浦 裕
第65号 中研測定機器紹介 CE/LC/MSD装置「Agilent 1200-6140A」   中央研究所   杉浦 啓規
第65号 台湾上村股份有限公司加工工場の紹介   市場推廣部    
第65号 日本塗装協会技術賞を受賞して   中央研究所   小原 勝彦
第66号 環境対応型クロムめっきの開発 ―三価クロムめっきの過去、現在、そして未来へ― 大阪府立産業技術総合研究所   森河 務
第66号 高耐食で環境に優しいクロムめっき ユープロクロムCLH-1 ウエムラマレーシア   村上 透、前田 亮、Suhaimi Hamid,
Nurul Aidilla,
Mohd Murshid
第66号 銅ワイヤボンディング可能な銅上の新規パラジウム/金工程製品の紹介   中央研究所   染矢 立志
第66号 省スペース化およびメンテナンス性向上を目的とした流通式電解再生装置   中央研究所   西條 義司、内海 雅之、山本 久光
第66号 中央研究所の再構築計画   中央研究所   佐藤 誠
第66号 韓国上村株式会社の新社屋の紹介   韓国上村株式会社   立川 光石
第66号 海外風土事情1 台湾   中央研究所   佐藤 誠
第66号 ICP-MSの新展開 高エネルギーHeコリジョンの可能性   アジレント・テクノロジー株式会社   行成 雅一
第66号 テクニカルレポート編集後記 「がんばろうウエムラグループ」 中央研究所   佐藤 誠
第67号 プリント配線板におけるめっき技術の現状と新しい基板表面改質技術   大阪市立工業研究所   藤原 裕、小林 靖之、池田 慎吾
第67号 ホルムアルデヒドフリー中性無電解銅めっき液 「エピタスPHP」の紹介 ―ウエハ上の電極パッドへの適用― 中央研究所   中山 智晴
第67号 中性無電解還元Agめっき液 「アルジェントRSD-4」の紹介 中央研究所   橋本 大督
第67号 フッ化物フリー・高速・高耐食性の硬質クロムめっき液 「ユープロクロムCHC」の紹介 ウエムラマレーシア   梁田 勇
第67号 海外風土事情2 シンガポール   ウエムラ・シンガポール   奥田 二朗
第67号 特許に関する上村工業(株)の取り組み   管理本部 法務部   才津 晴信
第67号 新型FE-SEM「JSM-7800F」の紹介   日本電子(株) SM事業ユニットSM技術グループ 斎藤 学、数森 啓悦、工藤 政都
第67号 テクニカルレポート編集後記 企業の開発における「国力」 中央研究所   佐藤 誠
第68号 水の中の冷たいプラズマ ―ソリューションプラズマ― 関東学院大学 材料・表面工学研究所 高井 治
第68号 シアンフリー無電解置換金めっき液 「エピタスTDS-25」の紹介 中央研究所   柴田 利明
第68号 回転ディスク電極における流速と金属イオン濃度が分極特性に与える影響   中央研究所   小原 勝彦、淺 富士夫、杉浦 裕、佟 立柱
第68号 タイ大洪水からの復旧顛末記   SUM HITECHS   宮崎 繁治
第68号 特許権の取得と維持に必要な費用   管理本部 法務部   才津 晴信
第68号 非破壊検査・解析に活用されるX線技術   デイジ・ジャパン(株) "アプリケーションエンジニア※1テクニカルサポートエンジニア※2" "岡本 慎太郎※1松永 信一郎※2"
第68号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   佐藤 誠
第69号 ファインパターンへのEPIGの特性   中央研究所   北島 晃太
第69号 電気銅めっき液「スルカップEVF-YF」および電気銅めっき装置「U-VCP」の紹介   中央研究所   松田 加奈子
第69号 新中央研究所の紹介   中央研究所   川上 浩、佐藤 誠
第69号 海外風土事情3 韓国ソウルでの生活   韓国上村株式会社   早川 徹治
第69号 「リアルタイム3DアナリティカルFIB-SEM」による材料の三次元解析   (株)日立ハイテクサイエンス   満 欣、上本 敦、麻畑 達也、鈴木 秀和、大柿 真毅、荷田 昌克、藤井 利昭
第69号 製造現場を支える計測技術 白色光干渉測定方式を用いた最近の計測原理と測定例の紹介 ブルカー・エイエックスエス(株) ナノ表面計測事業部 秋本 壮一
第69号 特許に関する国際条約   管理本部 法務部   才津 晴信
第69号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   佐藤 誠
第70号 第70号 発刊にあたり   代表取締役社長   上村 寛也
第70号 動的モンテカルロ法による めっきシミュレーションの基礎   京都大学大学院 情報学研究科 金子 豊
第70号 シリコン上への無電解めっき 貴金属ナノ粒子の置換析出とその応用 兵庫県立大学大学院 工学研究科 八重 真治
第70号 各種ワイヤに適合する皮膜種の選定   中央研究所   染矢 立志
第70号 すずおよびすず合金めっき皮膜変色防止剤「ソフトアロイMHA-16」の紹介   中央研究所   辻本 雅宣
第70号 キレート剤の特性およびその用途   中部キレスト(株) 研究部 研究一課 中村 淳
第70号 海外風土事情4 マレーシア   枚方機械工場   金坂 淳
第70号 特許出願書類の記載内容 明細書 管理本部 法務部   才津 晴信
第70号 エレクトロニクス製品の変化と当社の製品開発に関して   経営企画部   米田 剛
第70号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   佐藤 誠

第71号~第80号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第71号 これからの日本の表面処理技術 高密度実装分野やエネルギー分野で重要性が高まっている 関東学院大学理工学部 応用化学コース 小岩 一郎
第71号 水溶性カチオンポリマーの特徴とその用途 センカ株式会社 営業部門 野崎 卓也
第71号 GaAs waferへのダイレクトめっき法 中央研究所 神崎 翔、伊井 義人
第71号 ウェハープロセスにおける自動液管理装置の紹介 中央研究所 北側 善章
第71号 海外風土事情5 中国 中央研究所 霍 悦生
第71号 特許出願書類の記載内容 特許請求の範囲 管理本部 法務部 才津 晴信
第71号 テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠
第72号 機能性磁性膜のウェットプロセスによる形成   奈良工業高等専門学校 電気工業科 藤田 直幸
第72号 アルミニウムダイキャスト(ADC12材)上への無電解Ni-Pめっき   近畿大学 理工学部准教授 藤野 隆由
第72号 新方式垂直連続搬送無電解銅めっき装置U-VSPS   中央研究所   星 俊作、内海 雅之、淺 富士夫、山本 久光
第72号 ニムフロンシリーズの紹介   中央研究所   佐藤 雅亮
第72号 可搬型蛍光X線分析装置   (株)堀場製作所   青山 朋樹
第72号 海外風土事情6 インドネシア   PT.Uyemura Indonesia   田邊 大之輔
第72号 特許の先使用権について   管理本部 法務部   才津 晴信
第72号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   佐藤 誠
第73号 電気めっきによるアルミニウム皮膜の形成とその応用   京都大学大学院 エネルギー科学研究科 平藤 哲司、三宅 正男
第73号 亜鉛めっきの機能性向上に関する研究   京都府中小企業技術センター   中村 知彦
第73号 ニムデンブラックKJB-1およびMJB-1を用いた黒色皮膜形成プロセス   中央研究所   大久保 洋樹
第73号 ダイレクトめっきプロセス「パラダイム」の紹介   中央研究所   岡町 琢也、米田 拓也、石田哲司、山本久光
第73号 ライン管理者からみた分析   中央研究所   前田 亮
第73号 蛍光X線分析法 新型波長分散型蛍光X線分析装置ZSX Primus Ⅳの紹介と薄膜分析への応用例 (株)リガク X線機器事業部 森山 孝男
第73号 特許の新規性について   管理本部 法務部   才津 晴信
第73号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   佐藤 誠
第74号 粒子とめっき液の反応から複合めっきを考える   岡山大学 自然科学研究科 林 秀考
第74号 低温点ガラスペーストを使用したチップ部品対応ニッケル/中性すずめっきプロセス   中央研究所   荒谷 真佐登
第74号 硫酸銅めっき添加剤 スルカップEFL-01の紹介 中央研究所   生本 雷平
第74号 陽極酸化と航空機材「アノダイズ」   装置技術コンサルタント   高橋 正明
第74号 走査型プローブ顕微鏡とその応用   (株)島津製作所 分析計測事業部 大田 昌弘
第74号 海外風土事情7 タイ   Sum Hitechs Co., Ltd.   筑間 光靖
第74号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   小田 幸典
第75号 IrO2-Ta2O5混合酸化物被覆チタン電極における酸素過電圧とPbO2結晶化過電圧   同志社大学 研究開発推進機構 川口 健次
第75号 アルミニウム素材への高密着性ジンケート浴 ニムデン®ジンケートLEA-10の紹介 中央研究所   前川 拓摩
第75号 平坦性および膜厚均一性に優れた高速銅ポストめっき浴エピタス®EPT-Hの開発   中央研究所   板倉 祐紀
第75号 EBSD法の紹介 OIMを用いた材料ミクロ組織観察法 (株)TSLソリューションズ   鈴木 清一
第75号 海外風土事情8 中国・上海   内部監査室   横山 秀一
第75号 特許の進歩性について(1)   管理本部 法務部   才津 晴信
第75号 テクニカルレポート編集後記   中央研究所   小田 幸典
第76号 アルミニウム合金への無電解Ni-Pめっきとジンケート処理 広島工業大学
岡山県工業技術センター
工学部機械システム工業科 日野 実
村上 浩二
第76号 低濃度置換金浴「ゴブライト®TLM-44」の紹介 中央研究所 金子 陽平
第76号 BVH内のめっき析出性を向上させた無電解銅めっき液「スルカップ®PTU」の紹介 中央研究所 竹内 雅治、川瀬 智弘、中山 智晴、山本 久光
第76号 長期連続使用が可能なサテンニッケルめっき浴 - MIYAVINO SHINE - 中央研究所 木曽 雅之
第76号 PI上の金属膜形成プロセス PIMETALL Process 台湾上村股份有限公司 台湾研究所 呉 昌龍・鄭 景宏・上玉利 徹
第76号 ゼータ電位・粒径・分子量測定システム ELSZ-2000 大塚電子(株) 学術部 田中 克治
第76号 テクニカルレポート編集後記 国際業務部 佐藤 誠