テクニカルレポート

創刊号~第10号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
創刊号テクニカルレポートの発刊にあたって 社長 上村 晃史
創刊号最近の表面処理と今後の展開 中央研究所 大高 徹雄
創刊号めっき自動機の動向 機械事業部 佐藤 敦彦
創刊号(抄訳)無電解ニッケルめっきの前処理   C. P.Nargi
創刊号(抄訳)無電解ニッケルめっきの後処理   N.M.Smith
創刊号亜鉛めっき工場へのウエムラ・トータルシステム・セールスの事例   
第2号めっき設備のメカトロニクスの焦点自動脱着をめぐる課題  テクニカル・レポート編集部
第2号自動脱着ロボットのメカニズム 機械事業部 中川 佳三
第2号(抄訳)めっきプラントに適用されるコンピューター制御システム脱着ロボットにふれて技術企画情報室 橋本 滋雄
第2号(抄訳)ピロりん酸銅めっき浴による、最適プリント回路板めっき法   C.Ogden,D.Tench
第2号酸性硫酸銅めっき浴のCVS分析スルホニウムアルカンスルホネートをベースにした添加剤について  R.HAAK,C.Ogden,D.Tench
第2号王先生の日本見聞録中国と日本のめっき事情を語る東北工学院 王 逢伊
第3号マイクロプレートS-700及びプロセスについて 東京支店 椎名 壽康
第3号転換期にきた、めっき産業 NEW MEKKIの新しい潮流を求めて 変ぼうするめっき産業総合経営企画室 上野山 衛
第3号(抄訳)パラジウムめっき硫酸浴 デグサ社 DR.F.Simon,W.Zilske
第3号科学技術賞の受賞によせてフッソ系高分子含有ニッケル複合めっきの工業化中央研究所 松村 宗順
第3号電着塗装のすすめ  大阪本店 岡田 寿生
第4号DMABを還元剤とする無電解ニッケル-ホウ素めっき 中央研究所 斉藤 昌弘
第4号ニムコン-システム・について 中央研究所 酒井 裕允
第4号(抄訳)EMI/RFIシールド用無電解めっきの展望5/83 INDUSTRIAL FINISHINGより抜粋   
第4号ニムデンの品種と適用用途 中央研究所 斉藤 昌弘
第4号新規事業開拓の歩みと成果をふりかえって ㈱サトーセン 佐藤 光治
第5号最近のプリント基板めっき自動機の動向 機械事業部 佐藤 敦彦
第5号(抄訳)1980年代のプリント基板の連続的処理方法 マイクロプレート社 C.D.アイチュン
第5号(抄訳)MPE-モジュラー処理装置 MODUL PROCESSOR社 L.Jacobson
第5号乾式流動研磨法 SPIN MAXについて 中央研究所 松本 弘
第5号新しいヌージン浴について 大阪本店 井川 進
第5号韓国機械ショウ出品によせて 機械事業部 佐藤 敦彦
第6号ごあいさつ 社長 上村 晃史
第6号めっき技術最近の動向 甲南大学 川崎 元雄
第6号需要開拓期にきた、これからのめっき業界 総合経営企画室 上野山 衛
第6号座談会 新しいめっきの潮流 新製品をめぐって   テクニカル・レポート編集部
第6号上村の歩みと技術変遷社史「135年のあゆみ」発刊を記念して総合経営企画室 森田 國弘
第7号(抄訳)直接金ストライクめっきプロセス『オールナ311』ニッケルストライクを使用せず、直接にステンレス鋼に金めっきを行う新プロセスデグサ社 DR.H.J.Lubke
第7号(抄訳)高速金めっき浴について デグサ社 
第7号デグサ熔融塩白金めっきチタン電極 デグサ・ジャパン㈱ 吉川 潔
第7号パールブライトについてE法が開発されて中央研究所 魚谷 鴻
第7号新しい塩化亜鉛めっき『ジンコール CP プロセスについて』硼酸を含まない、新しいカリ浴中央研究所 久保 元伸
第7号新しいジンケート亜鉛めっき光沢剤『SRシリーズ』について 中央研究所 森本 啓仁
第7号これからのめっき-技術に生きるFAのトータル管理を目指す森脇鍍金工業㈱ 森脇 富治
第8号めっき液自動管理装置『ケミロボ』 中央研究所 荒木 建
第8号ピロリン酸銅めっき皮膜の物性研究 中央研究所 浅 富士夫
第8号液振動法による、高速セルとケミカルズ高速硫酸銅めっき中央研究所 内甑 安男
第8号陰極電着塗装法『ニューペイトン』について当社の電着システムとめっき工場の事例大阪本店 上村 寛也
第8号ユータスについてユニット・アッセンブリー・システムによる新しいめっき装置機械事業部 佐藤 敦彦
第9号アルミニウムへのめっき前処理法『ADプロセス』について 中央研究所 仲村 太一
第9号無電解ニッケルめっき液『ニムデンHDX』めっき技術を応用した高密度磁気薄膜ディスク用中央研究所 斉藤 昌弘
第9号自動液管理装置『ケミロボ』メモリ用磁気ディスク無電解めっき浴中央研究所 橋本 滋雄
第9号プリント基板用めっきプロセス『スルカップ・プロセス』 中央研究所 出口 和夫
第9号『アサヒスタナーシリーズ』についてスズ・ハンダめっき浴光沢剤中央研究所 久保 元伸
第9号活性炭炉過塔について 大阪本店 辻村 三喜夫
第10号高速めっき法とPCストリーム   テクニカル・レポート編集部
第10号KAT-450&無電解ニッケル-金めっきプロセス無電解金回路上接点めっき東京支店 木曽 雅之
第10号ノーバフ化を目指す乾式流動研磨法 SPIN MAX (横型)の開発 中央研究所 松本 弘
第10号(抄訳)硫酸銅めっき浴からの電析物の引張特性   R.Haak,C.Ogden,
D.Tench
第10号(抄訳)高添加剤濃度での回路基板用ピロりん酸銅 めっき浴のオペレーション   M.Jawitz,
C.Ogden,
D.Tench,R.Thompson
第10号(抄訳)逆浸透圧法による電着塗装ラインのクローズド化 FORD自動車㈱ W.S.Springer,
G.G.Strosberg,
J.E.Anderson

第11号~第20号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第11号プリント基板用硫酸銅めっき浴『スルカップAC-90』 中央研究所 内甑 安男
第11号複合めっき『メタフロン』 中央研究所 松村 宗順
第11号磁気ディスクにおける、下地めっき技術の現状と将来 中央研究所 斉藤 昌弘
第11号(抄訳)エレクトロニクス産業における工業電気化学、その現状と将来   L.T.Romankiw
第11号無電解めっき析出検知装置メモリ用磁気ディスク中央研究所 橋本 滋雄
第12号無電解合金めっき・無電解複合めっき 中央研究所 斉藤 昌弘
第12号(抄訳)無電解ニッケルめっきの誘導析出の研究 南京大学 F.J.Li
第12号リードSBについて フッ素フリー半光沢ハンダめっき浴中央研究所 久保 元伸
第12号アルミニウム上めっき前処理法AZプロセスについて 中央研究所 仲村 太一
第13号プリント配線板マーケットの最近の動向   テクニカル・レポート編集部
第13号スルカップ プロセスプリント回路技術における、最近の無電解銅プロセスの動向中央研究所 出口 和夫、桑田 能安
第13号スルカップ AC-90プリント回路技術における硫酸銅めっきの最近の動向中央研究所 内甑 安男
第13号スルカップ SL-64プリント回路技術におけるハンダめっきの最近の動向中央研究所 久保 元伸
第13号ケミロボエレクトロニクス分野における、めっき浴の自動管理技術の最近の動向中央研究所 橋本 滋雄
第13号プリント配線板 めっき装置の最近の動向 機械事業部 中川 佳三
第13号ケミロボ・ジュニア-NPについて無電解ニッケルめっき自動液管理装置中央研究所 寺岡 忠儀
第13号日本材料学会腐食防食部門委員会 第134例会 中央研究所 小若 正倫
第14号化学反応が作る金属薄膜無電解めっき膜による機能材料の創造早稲田大学 逢坂 哲彌
第14号フッ素フリー光沢ハンダめっき浴『リードKT、KT-H』について 中央研究所 久保 元伸
第14号超高均一電着性ニッケルめっき浴『スルニック浴』について 中央研究所 村上 透、魚谷 鴻
第14号亜鉛めっきウイスカー防止用添加剤『アサヒジンケルZ-70H』について 中央研究所 森本 啓仁
第14号台湾に2合弁会社を設立   テクニカル・レポート編集部
第15号新しい表面処理と応用 中央研究所 大高 徹雄
第15号高物性無電解銅『ELC-UM』 中央研究所 桑田 能安
第15号『ケミロボ-Jr』シリーズについて滴定分析の機能をもつ自動液管理装置中央研究所 寺岡 忠儀
第15号フッ素樹脂を含む複合めっきの特長と日本での工業化について 中央研究所 松村 宗順
第15号座談会 "中国の研修生は語る"日本の印象と中国の表面処理産業の現状と未来  テクニカル・レポート編集部
第16号世界の経済情勢とめっき業界の今後の展望 社長 上村 晃史
第16号電磁波障害の規制と『エラメット法』について 相模原工場 岡田 寿生
第16号小径スルホール用厚付け下地無電解銅めっき浴『スルカップELC-SP』 中央研究所 出口 和夫
第16号国際規格ISO4516-1980 金属皮膜等のビッカース及びヌープ微小硬さ試験    
第16号ハードディスク用Ni-Cu-Pめっき皮膜の量産化技術に関する検討 中央研究所東京分室 松井 富士夫、中山 郁雄
第17号耐食性非晶質合金めっきの展望 中央研究所 小若 正倫
第17号高純度厚付け無電解金めっき液『GOBEL』 中央研究所 斉藤 昌弘、高見 秀幸、木曽 雅之
第17号(抄訳)金めっきの色 University of Aston D.J.Arrowsmith
第17号西ドイツの複合めっき事情 中央研究所 松村 宗順
第18号140周年を迎えて 社長 上村 晃史
第18号(抄訳)水溶性レジスト処理のプリント基板に対する金めっきプロセス Degussa Corporation Dr.J.Deuber,
Dr.H.Lubke,
Dr.F.Simon
第18号(抄訳)パターンめっきプリント配線板の均一電着性における回路形状の影響 Bell Laboratories D.A.Rudy
第18号大阪本社新社屋建設について 専務取締役 西田 滋三
第18号中央研究所設立20周年と記念論文集出版にあたって 取締役 大高 徹雄
第18号台湾の経済情勢と台湾上村股份有限公司の近況 台湾上村股扮有限公司 田中 康弘
第19号EE-1プロセスについて 中央研究所 山本 泰之
第19号セラミックスへのめっきプロセス 中央研究所 仲村 太一
第19号結晶構造が微細でボンディング性に優れた金めっき浴『オールナ 557』 東京支社 椎名 壽康、鬼頭 孝憲
第19号ニッケルと銅の分離定量分析 中央研究所東京分室 松井 富士夫、中山 郁雄
第20号めっきの結晶学と非晶質めっき 東京都立大学 渡辺 徹
第20号ウエムラの無電解ニッケルめっき薬品製品群 中央研究所 斉藤 昌弘
第20号小型電着塗装システムについて 中央研究所 鈴木 祥一郎
第20号(抄訳)電流分布の改善方法 French National Center R.H.Rousselot

第21号~第30号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第21号無電解ニッケル-リン/PTFE複合めっき『ニムフロン』 中央研究所 松村 宗順
第21号低融点、高融点はんだめっき浴『ソフトアロイLM、HM浴』について 中央研究所 森本 啓仁
第21号小型電着塗装システムについて 中央研究所 鈴木 祥一郎
第21号(抄訳)電磁波シールドのための無電解めっき皮膜の比較   J.Hajdu,
G.Krulik
第22号機能的用途に用いられる″合金めっき″ 大阪市立工業研究所 榎本 英彦
第22号無電解ニッケルめっき自動液管理装置『スターラインダッシュ NP』 中央研究所 吉川 一紀
第22号(抄訳)ハルセルにおける二次電流分布境界要素法と有限要素法によるシミュレーションと実験による検証  M.Matlosz,
C.Creton,
C.Clerc,
D.Landolt
第22号SUR/FIN′90に参加して 中央研究所東京分室 松井 冨士夫
第23号厚付け無電解はんだめっき『ビームソルダー PC』プロセスについて 中央研究所 久保 元伸
第23号高速めっきへのアプローチ『高速亜鉛めっき法』について 中央研究所 浅川 清
第23号無電解ニッケル・りん合金めっきの応用高温高濃度苛性ソーダ中での耐食性中央研究所 内田 廣記
第24号電析非晶質合金めっきの最近の発展 中央研究所 小若 正倫
第24号硫酸はんだめっき『ニューソルダー GC』 中央研究所 梁田 勇
第24号電解槽の電流分布シミュレーション(1) めっき液の性質と電流分布中央研究所 小原 勝彦
第24号電解槽の電位分布と電流分布 中央研究所 日根 文男
第24号給排システムについて 中央研究所 立花 真司
第25号電着塗装の概要(Ⅰ) 中央研究所 鈴木 祥一郎
第25号CB研磨技術 中央研究所 松本 弘
第25号最近の洗浄剤の環境対策について溶剤代替洗浄剤について開発技術研究所 岡田 哲朗
第25号アルミニウムのエッチング速度の測定方法 中央研究所 川崎 正悟
第26号商標制度の概要 中央研究所 苫篠 恵子
第26号電解槽の電流分布シミュレーション (2) 電流分布改善手法について中央研究所 小原 勝彦
第26号ニムデンSHDXの開発とHDD業界の現状ハードディスク下地用めっき中央研究所 佐藤 誠
第26号電鋳による金の中空宝飾品の製造AURUNA-FORM アウルナ・フォーム東京支社 椎名 壽康
第26号SUR/FIN'92に参加して UIC 松井 冨士夫
第27号表面処理から見たTAB技術 中央研究所 木曽 雅之
第27号電解槽の電流分布シミュレーション (3) 解析事例中央研究所 小原 勝彦
第27号電着塗装の概要(・) 中央研究所 鈴木 祥一郎
第27号ハードディスク前処理給排システムについて 中央研究所 下村 友二、立花 真司
第27号高耐食性の厚付け銅錫スペキュラム合金めっき浴とニッケル・アレルギーついてMiralloy 843, ミラロイ843東京支社 椎名 壽康
第27号薄付け化学銅浴『PSY』 中央研究所 桑田 能安
第27号工業所有権を巡る諸問題(米国編)  技術本部 古井 剛史
第28号連続PWBめっき装置 中央研究所 佐藤 敦彦
第28号光通信システム システム開発部 山崎 茂雄
第28号超光沢無電解ニッケルめっき液 『ニムデン NBX』 中央研究所 中村 孝之
第28号非晶質Fe-Cr-Ni-P合金めっき膜の作製とその分極挙動 中央研究所 李 明、小若 正倫
第28号電析非晶質NI-Cr-P合金皮膜の耐食性 中央研究所 傅 燕雲、小若 正倫
第28号コプキア MAP-4K について 中央研究所 岡田 哲朗
第28号繊維状活性炭カートリッジによるめっき液の浄化 ユニチカ㈱中央研究所 米原 智子
第29号電着塗装の概要(・) 中央研究所 鈴木 祥一郎
第29号プリント配線板用電着レジスト処理装置 第二工場、中央研究所 木田 裕蔵、鈴木 祥一郎
第29号めっき装置によるスケジューリング制御 システム開発部 桐畑 忠和
第29号蛍光X線によるFePめっき皮膜の膜厚およびPwt%の測定 中央研究所 内田 廣記
第29号アルミニウム上めっき前処理による表面形状変化について 中央研究所 下村 友二
第29号EMIの現状とエラメットプロセス 相模原工場 岡田 壽生
第29号ニッケル光沢剤『マイヤマスター』 中央研究所 家治 友美、村上 透
第30号第30記念号の発行に際して 中央研究所 仲村 太一
第30号めっきでできる高機能皮膜 中央研究所 仲村 太一
第30号プリント配線板と最新のめっき技術 日立製作所 日立研究所 材料第1部赤星 晴夫
第30号実装技術におけるプリント基板表面処理技術の動向 三菱電機(株) 生産技術センター実装技術部藤田 実
第30号半導体用パッケージと最新のめっき技術 新光電気工業(株) 第一開発部若林 信一
第30号テクニカルレポートの歩み テクニカルレポート編集部  

第31号~第40号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第31号磁性材料と新しい機能めっき 早稲田大学理工学部 逢坂 哲彌、黒川 義昭
第31号環境問題の最近の状況 関西化学工業協会 常務理事松岡 昭
第31号電着塗装の概要Ⅳ 中央研究所 鈴木 祥一郎
第31号無電解ニッケル複合めっきの皮膜特性 技術本部 技術企画室 松村 宗順
第31号フロースループレーター RP-1高速回転式バレルめっき装置中央研究所 トーマス・グリエゴ、杉浦 裕
第31号スターラインダッシュ NP無電解ニッケルめっき用自動めっき液管理装置技術本部 システム開発部 吉川 一紀
第32号リードフレームめっきの最新の技術動向 新光電気工業(株) 第1リードフレーム事業部村田 明彦、若林 則男
第32号海洋投棄規制に対するめっき廃液処理技術の動向 (社)表面技術協会無電解めっき懇談会神戸 徳蔵
第32号硫酸塩浴電気はんだめっき「ニューソルダーGC」の連続搬送による高速めっき 中央研究所 梁田 勇、清水 宏治
第32号EE-1プロセスダイレクトプレーティング中央研究所 森本 修史
第32号ニムフロンFRS(PTFE高含有タイプ)無電解Ni複合めっき液中央研究所 千葉 格、赤木 比子
第32号UconについてPWBラックレス連続搬送めっき装置中央研究所 松岡 修二
第33号&第34号表面処理における解析技術 (株)松下テクノリサーチ材料試験部日置 康弘
第33号&第34号ハードディスク下地めっきにおけるノジュールの発生原因の検討 中央研究所 中山 郁雄、下村 友二、能津 雅浩
第33号&第34号めっきの皮膜欠陥の解析 中央研究所 南 幸江、堀田 佳子、仲村 太一
第33号&第34号オーリカルT プロセス 中央研究所 内田 廣記
第33号&第34号ノーシアン中性無電解金めっき浴「ネオラム」について 中央研究所 村上 透、辻本 雅宣、森本 啓仁、家治 友美
第35号製造物責任(Product Liability,PL)対策について 総合企画室 松村 宗順
第35号最新レーザー表面処理技術プラスチックス基板の表面改質からふっ素樹脂の無電解めっきまで工業技術院物質工学工業技術研究所 矢部 明、新納 弘之
第35号ハードディスク下地めっき浴の長寿命化 中央研究所 斉藤 昌弘、中山 郁雄、高見 秀幸、安達 由紀
第35号苛性アルカリ水溶液へのタングステンの溶解 中央研究所 岡田 哲朗
第35号電着塗装の概要Ⅴ 中央研究所 鈴木 祥一郎
第36号めっき装置の変遷 第二工場 濱田 良介
第36号めっき装置制御機器、めっき液管理装置の動向 中央研究所 桐畑 忠和
第36号電解槽の電流分布解析ソフト"膜厚案内人" 中央研究所 小原 勝彦
第36号EPMAによる銅亜鉛合金の塗膜下腐食生成物の分析 中央研究所 福井 洋一
第36号長寿命無電解ニッケルめっき液「ニムデンNEL」 中央研究所 佐藤 誠、葛原 章
第36号リジタイトESCめっき(不溶性陽極を用いた電解Ni-P/SiC高速複合めっき)中央研究所 千葉 格、門田 宏治
第37号めっきの溶液化学 京都大学大学院工学研究科 材料工学専攻粟倉 泰弘
第37号めっきの電気化学 中央研究所 松井 冨士夫
第37号めっき皮膜の形成と形態 中央研究所 村上 透
第37号電解槽工学の立場から見た金属析出反応操作 中央研究所 日根 文男
第37号めっきの性能(特性)と応用 本店営業部営業技術グループ奥田 二朗
第38号電子デバイスにおける無電解ニッケルめっき 沖電気工業株式会社研究開発本部澤井 秀夫
第38号半導体パッケージ対応の置換厚付け金めっきプロセス 中央研究所 木曽 雅之
第38号電着塗装の概要Ⅵ 中央研究所 鈴木 祥一郎
第38号水系洗浄剤(ギルライトシリーズ)と洗浄装置(ミジリフシリーズ) マンギルプロジェクトチーム 松村 宗順、仲村 太一、法月 正恒
第39号鉛を含まない錫合金はんだ(鉛フリーはんだ) 中央研究所 梁田 勇
第39号複合めっき皮膜の機能性とその応用 中央研究所 千葉 格
第39号フロースループレーターの実施例 中央研究所 杉浦 裕
第39号ネオラムプロセスについて 中央研究所 家治 友美、村上 透
第40号表面処理における防食設計と防食管理 中央研究所 日根 文男
第40号耐食プラスチックによる防食技術 樹脂ライニング工業会会長山崎 昇
第40号めっき前処理装置の腐食損傷事例 中央研究所 仲村 太一
第40号無電解Niめっき装置の腐食損傷例 中央研究所 中山 郁雄
第40号電気めっき設備の腐食損傷例とその対策 中央研究所 松井 冨士夫

第41号~第50号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第41号めっき工業における不溶性陽極の応用とその可能性 中央研究所 松井 冨士夫
第41号世界のめっき工業事情ドイツにおける電気めっき分野の進展(1997)ベルリン、GUV mbH教授Hans-W. Lieber
第41号世界のめっき工業事情米国におけるプリント配線基板市場の動向ウエムラ インターナショナル コーポレーション Anthony R. Revier
第41号世界のめっき工業事情アジアのめっき業界の動向 韓国韓国KPM駐在 浅川 清
第41号世界のめっき工業事情アジアのめっき業界の動向 台湾大阪営業技術グループ 石丸 篤朗
第41号世界のめっき工業事情アジアのめっき業界の動向 香港上村旭光有限公司 椎名 壽康
第41号世界のめっき工業事情アジアのめっき業界の動向 ASEAN諸国ウエムラ インターナショナル シンガポール 上野 文昭
第41号世界のめっき工業事情アジアのめっき業界の動向 日本社団法人 日本表面処理機材工業会 野々村 哲男
第41号世界のめっき工業事情別表 アジアと欧州諸国の社会資本構造一覧(1997年9月)テクニカルレポート編集部  
第41号テクニカルレポート 掲載内容一覧表 テクニカルレポート編集部  
第42号各種規格とめっき皮膜の評価 中央研究所 櫻谷 静佳
第42号めっき作業の管理 東京支社営業技術グループ 田中 敏徳、寺岡 忠儀
第42号BGAパッケージとはんだボール接合強度 中央研究所 中村 孝之
第42号無電解ニッケルめっきによる下地層形成における表面欠陥に関する観察結果 中央研究所 下村 友二
第42号最近の研磨事情 中央研究所 松本 弘
第42号上村工業における技術成果 中央研究所 仲村 太一
第43号走査型プローブ顕微鏡による材料開発の夢電気化学原子層エピタクシー法による新材料創製大阪大学大学院工学研究科マテリアル応用工学専攻平井 信充、原 茂太
第43号電析金属の結晶化過程 中央研究所 村上 透
第43号throwing power 中央研究所 日根 文男
第43号めっき液の分析 中央研究所 内田 廣記
第43号電鋳金型の現状と将来 (株)イケックス工業 竹田 博昭
第43号電着塗料の加熱残分測定方法 中央研究所 立川 光石、土家 和代、福井 洋一、鈴木 祥一郎
第43号洗浄と環境規制について マンギルプロジェクトチーム 松村 宗順、仲村 太一、法月 正恒
第44号環境保全と労働安全問題 管理本部 中川 佳三
第44号表面処理工業における環境保全 営業本部 淺 富士夫
第44号表面処理工業における労働環境の改善 情報本部、中央研究所 奥田 二朗、松岡 修二
第44号無電解ニッケルめっき浴の再生と循環 中央研究所 松井 冨士夫
第44号特許権の効力が及ぶ範囲について(特許で誰が保護されているのか)管理本部 古井 剛史
第44号薄板PWB対応ラックレス連続めっき装置「Ucon」(開発の経緯と現状および今後の展望)中央研究所 清水 宏治
第45号ゾル-ゲルコーティング 福井工業大学 作花 済夫
第45号最近の溶射技術と機能皮膜製品への適用化 トーカロ(株) 原田 良夫
第45号機能性酸化チタン テイカ(株) 安原 正
第45号電解槽の電流分布シミュレーション(4)-解析事例と結果表示の紹介-中央研究所 小原 勝彦
第45号エレクトロニクス工業における電気化学反応操作 IBM Fellow,T.J.Watson Research Center L.T.Romankiw
第45号立体配線のための新加工技術-デバイス平坦化CMP技術とMID射出立体配線-豊田工業大学、日本工業大学 中川 威雄、野口 裕之
第45号めっき薬品の小型プラスチック容器の再使用について 枚方化成品工場 酒井 裕允
第46号電子部品・材料の腐食 三菱電機(株) 瓦井 久勝
第46号電子部品・デバイスの環境試験における腐食損傷事例 (株)松下テクノリサーチ 徳桝 弘幸、金田 諭、中井 宗明
第46号エンジニアリングの立場からのめっき皮膜の耐食性 中央研究所 村上 透
第46号腐食の角度から見た無電解ニッケル/無電解金めっきのはんだ接合 中央研究所 久保 元伸
第46号ハードディスク用ガラス基板上への無電解Ni-Pめっきプロセス(MGDプロセス)中央研究所 多田 雅徳
第46号ビルドアップ工法に適した無電解銅めっき"Thru-Cup PEA" 中央研究所 堀田 輝幸、桑田 能安
第47号粘着性の剥離速度依存性 日東電工(株) 浦濱 圭彬
第47号薄膜の機械的性質とその試験法 京都大学大学院工学研究科 駒井 謙治郎
第47号X線解析法を用いた薄膜の応用測定 (株)島津製作所 藤原 忠幸、関口 晴男
第47号めっきの密着性 枚方化成品工場 仲村 太一
第48,49合併号チタンの表面処理 社団法人日本チタン協会 諸石 大司
第48,49合併号マグネシウムの表面処理 千葉工業大学精密機械工学科高谷 松文
第48,49合併号アルミニウムの表面処理 平山技術士事務所 平山 良夫
第48,49合併号無電解銅めっき液用自動液管理装置 ケミロボ2ELC 中央研究所 石嵜 隆浩
第48,49合併号プリント基板用、高均一性電気ニッケルめっき スルニックAMT 中央研究所 家治 友美
第48,49合併号無電解ニッケルめっき用自動めっき液管理装置 スターラインダッシュ3 製造本部 木戸 康裕
第48,49合併号無電解ニッケルめっきにおける亜りん酸塩の制御 中央研究所 松井 冨士夫
第48,49合併号電着塗装の初期課程 "上村工業(株)中央研究所※1京都大学エネルギー理工学研究所※2" "鈴木 祥一朗※1、※2、福井 洋一※1、土家 和代※1、尾形 幸生※2"
第50号第50号記念号発行するにあたり 上村工業株式会社 代表取締役社長 上村 寛也
第50号文化財と表面処理古代めっき技術(財)元興寺文化財研究所保存化学センター増澤 文武
第50号集積回路とめっき技術 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 粟倉 泰弘
第50号表面処理・めっき技術の展望 早稲田大学理工学部 本間 敬之
第50号表面技術の展望:乾式技術 東京大学生産技術研究所 光田 好孝
第50号アルミニウム表面技術の展望 北海道大学大学院工学研究科 高橋 英明
第50号湿式製膜法による太陽電池製造への道 大阪市立工業研究所 伊崎 昌伸
第50号表面技術の展望 名古屋市工業研究所 久米 道之
第50号紫外レーザープロセスによる表面改質 産業技術総合研究所 矢部 明
第50号めっきプロセスへのイオン交換膜の導入環境に対応するめっき技術大阪府立産業技術総合研究所 横井 昌幸
第50号超微細な世界 株式会社ヒキフネ 小林 道雄
第50号表面技術の展望 大高技術士事務所 大高 徹雄
第50号21世紀に期待できる表面技術の展望サプライヤーとしての役割中央研究所 魚谷 鴻
第50号表面処理技術(シミュレーション)の展望 中央研究所 小原 勝彦
第50号中央研究所における計測機器の事例集 中央研究所  
第50号めっき設備の変遷 中央研究所 松岡 修二

第51号~第60号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第51号無電解ニッケルめっき基礎と文献傾向中央研究所 佐藤 誠
第51号無電解貴金属めっき-金めっきを中心として-中央研究所 村上 透
第51号高速で付きまわりの良好な無電解Ni-Pめっき液 ニムデンNEL Ver.3 中央研究所 葛原 章、川上 浩
第51号はんだ実装対応無電解フラッシュ金めっき浴 ゴブライトTSB-71 中央研究所 木曽 雅之
第51号無電解めっき浴の再生とその意義 中央研究所 松井 冨士夫
第51号鉛フリーSn-Cuはんだめっき液 ソフトアロイGTC 中央研究所 梁田 勇、辻本 雅宣、岡田 哲朗、村上 透
第52号シリコン表面の陽極多孔質化表面処理 京都大学エネルギー理工学研究所 尾形 幸生
第52号乾式流動研磨に関する研究 "上村工業(株)中央研究所※1(株)ワイドマン技術部※2" "有田 了※1、山本 重幸※2、井伊 直智※2、鈴木 祥一郎※1"
第52号PWB垂直搬送式電気銅めっき装置Ucon-Jrについて枚方機械工場 木田 裕蔵
第52号無電解Ni-Pめっき新製品シリーズ紹介「ニムデンNKY、NBB、NDX」中央研究所 佐藤 誠、斉藤 昌弘
第52号発表文献紹介 ①無電解Ni-Pめっき浴の定常状態反応操作 "台湾上村(股)※1中央研究所※2情報管理部" "松井 冨士夫※1、川崎 正悟、稲川 拡※2"
第52号発表文献紹介 ②高均一電着性ニッケルめっきとその応用 "上村工業(株)※、Uyemura International Corporation" "村上 透※、Donald Gudeczauskas、David Liston、Michael Moffatt"
第53号フォトルミネッセンス法によるシリコン結晶中銅の高感度分析の検討と銅発光センターの構造 元(株)日立製作所 日立研究所 中村 稔
第53号無電解銅めっきの現状と応用 中央研究所 堀田 輝幸
第53号プリント配線板用置換銀めっき処理の紹介「プレサRGA-14」中央研究所 上玉利 徹、稲川 拡
第53号ディスプレー用透明電極向け 無電解酸化亜鉛めっき 中央研究所 西條 義司、田邉 克久、村上 透
第54号エレクトロニクス配線用 無電解銅めっき技術の現状 (株)日立製作所 日立研究所 赤星 晴夫
第54号セミアディティブ法によるビルドアップ基板製造のための無電解銅めっき液 中央研究所 堀田 輝幸、桑田 能安
第54号プリント配線板用垂直連続搬送式電気めっき装置 Ucon-jr 中央研究所 清水 宏治
第54号エピタス プロセスの紹介 中央研究所 吉川 一紀、内田 廣記
第54号半導体パッケージング基板用無電解金めっきの紹介「ゴブライトTMX-22」中央研究所 藤裏 裕之、松本 修
第54号FIB装置の紹介 セイコーインスツルメンツ(株)科学機器事業部岩崎 浩二
第55号鉛フリーはんだとNiめっきとの界面反応と組織 大阪大学産業科学研究所 菅沼 克昭、黄 致元
第55号無電解Niめっきの環境負荷軽減技術 中央研究所 佐藤 誠
第55号無電解Ni-Pめっき液「ニムデンNKY」シリーズニムデンNKY Ver.2、ニムデンNKY Ver.3中央研究所 吉田 順治
第55号OSP(Organic Solderability Preservative)工程用マイクロエッチング液「プレサMTP-2G」の紹介 中央研究所 上玉利 徹、西條 義司
第55号高いコストパフォーマンスを持つ自動縦型めっき装置の開発(Cu埋め込み用めっき装置の低価格化追求)日立協和エンジニアリング(株) 牧 琢己
第56号有害重金属フリー 無電解ニッケルめっき浴について 中央研究所 多田 雅徳
第56号ソフトアロイSn-Cu合金めっき皮膜の接圧ウィスカー抑制方法 中央研究所 岡田 哲朗、久保 元伸、梁田 勇、辻本 雅宣、家治 友美
第56号無電解銅めっき「スルカップPEA Ver.3」 中央研究所 堀田 輝幸
第56号無電解銅めっき用前処理プロセス「アルカップ」の紹介 中央研究所 山本 久光
第56号携帯電話基板向け高りんENIGプロセス-ニムデンNDF-2/ゴブライトTIG-10-中央研究所 "能津 雅浩、葛原 章、林 淳子
小田 幸典、中村 孝之"
第56号伸び行く企業 サミックス "大阪本店営業部
国際営業G"
 "若槻 卓志
木田 裕蔵"
第57号めっき析出の分子シミュレーション "京都大学大学院
金沢大学大学院
中央研究所"
情報学研究科
自然科学研究科
"金子 豊、三上 崇志
樋渡 保秋
小原 勝彦"
第57号すず、すず-銅合金めっき皮膜用熱変色防止後処理剤ソフトアロイMTC-7N中央研究所 梁田 勇、辻本 雅宣
第57号汎用めっき薬品ユープロシリーズ 枚方化成品工場 村上 透、前田 亮、仲村 太一
第57号樹脂成型品への装飾めっきラクシュプロセス"大阪営業部
上村化学(上海)"
 "志水 健
何 志剛"
第57号量産型電気めっき装置/フロースループレーターRP-FA-微小チップ部品対応-"枚方営業本部
中央研究所"
 "佐藤 隆
杉浦 裕"
第57号ウエムラグループのASEAN地域への対応 経営企画部 奥田 二朗
第58号ナノサイズ微粒子を利用した微細配線技術 甲南大学理工学部機能分子化学科 縄舟 秀美、赤松 謙祐
第58号薄付け無電解銅めっき「スルカップPGT」 中央研究所 堀田 輝幸
第58号置換型無電解金めっき浴「ゴブライトTAM-55」 中央研究所 村角 明彦、小田 幸典
第58号フレキシブル基板への無電解Ni-Pめっき 中央研究所 多田 雅徳、岩宮 陽子、木曽 雅之
第58号PFOS化合物の規制とめっき技術 中央研究所 千葉 格
第59号EUにおける環境規制の動向とその影響 日本電子(株) 松浦 徹也
第59号Ni-P/Pd/AuおよびNi-P/Au皮膜上へのSn/Ag/Cuはんだ接合における接合界面の観察 中央研究所、営業本部※ 小田 幸典、木曽 雅之、橋本 滋雄※
第59号環境から見ためっき装置 営業本部 大村 泰基
第59号重金属フリー無電解Ni-Pめっき製品の紹介 中央研究所 吉田 順治
第59号ウエムラグループの中国への対応 経営企画部 奥田 二朗
第60号ダイレクトめっきプロセスの紹介 中央研究所 山本 久光
第60号有害重金属フリー無電解Ni-Bめっき製品の紹介 営業本部 清水 浩一郎
第60号環境規制対応無電解Ni-P/PTFE複合めっき 中央研究所 井上 東彦
第60号枚方工場近代化第2期工事について 枚方化成品工場 酒井 裕允
第60号ダイレクトめっきプロセス"LACUSHU(ラクシュ)-D" サムハイテックス 近藤 宏毅、岡田 哲、土井 希彦

第61号~第70号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第61号計算機シミュレーションによるめっきの原子プロセスの解析 京都大学大学院情報学研究科 金子 豊
第61号フロースループレーター用中性半光沢Snめっき液「NTB-301」 台湾上村(股)有限公司台湾研究所呉 昌龍、佐藤 誠
第61号ウィスカ抑制電気Snめっき液「ティナデスGRX-70」の紹介 中央研究所 辻本 雅宣、梁田 勇
第61号上村旭光化工机械(深セン)有限公司の新本社工場の紹介 上村旭光化工机械(深圳)有限公司 三木 敏
第61号表面処理と知的財産制度 法務部 古井 剛史
第62号すずウィスカ発生のメカニズムと対策の現状 大阪大学産業科学研究所 菅沼 克昭
第62号水平搬送装置対応ダイレクトめっき「PDMTプロセス」 中央研究所 山本 久光
第62号水平搬送装置用無電解銅めっき液「スルカップPMK」の紹介 中央研究所 中山 智晴
第62号水平搬送めっき装置の現状 中央研究所 淺 富士夫
第62号台湾研究所の紹介 台湾上村(股)/台湾上村科技(股) 佐藤 誠
第62号SUM HITECHS F-4工場について (株)SUMIX 上村 智之
第62号全自動バレルめっき装置/フロースループレーターRP-2 中央研究所 杉浦 裕
第63号透過型電子顕微鏡を使ったすずめっき膜構造の解析 東北大学多元物質科学研究所 寺内 正己、佐藤 二美
第63号シアンフリー金めっき液を用いた無電解Ni-P/Pd/Auプロセスの紹介-シリコンウエハへの適用-中央研究所 柴田 利明
第63号パラジウム下地置換-還元型無電解金めっき浴の紹介「ゴブライトTWX-40」中央研究所 黒坂 成吾、小田 幸典
第63号プリント基板用置換すずめっき処理の紹介「プレサRMK-30」中央研究所 前田 剛志、上玉利 徹
第63号重金属フリー無電解Ni-Pめっき製品「ニムデンKFJ-20」の紹介 中央研究所 橋本 大督
第63号中研測定機器紹介 FE-SEM 「ULTRA55」 中央研究所 下村 友二
第63号新東京支社ビルの紹介    
第64号貴金属ナノロッドの電析によるAIアノード酸化膜のマルチカラー化 近畿大学理工学部 伊藤 征司郎
第64号プリント基板用 硫酸銅めっき添加剤スルカップEVF-TF スルカップEVF-UF中央研究所 清水 宏治
第64号ウィスカ抑制電気Snめっきプロセス―ティナデスGRXプロセスの紹介―中央研究所 辻本 雅宣、上玉利 徹
第64号パラジウム剥離剤 PDS-120 台湾研究所(Taiwan Research Laboratory) 佐藤 誠、鄭 振權、鍾 秉璋
第64号USC技術センター紹介 上村化学(上海)有限公司 山本 泰之
第64号中研測定機器紹介 収束イオンビーム装置「SMI2050」 中央研究所 下村 友二
第65号フレキシブル基板に対応した無電解ニッケル/金プロセスの紹介 中央研究所 前田 剛志、小田 幸典
第65号高速電気Snめっき液「ティナデスGHS-51」の紹介  加納 俊和
第65号ロープロファイル基板用セミアディティブ・デスミアプロセスアップデスプロセスの紹介中央研究所 西條 義司、山本 久光
第65号硫酸銅めっき添加剤スルカップECD-Hの紹介中央研究所 大村 直之
第65号めっきにおける流体解析 中央研究所 佟 立柱、小原 勝彦、淺 富士夫、杉浦 裕
第65号中研測定機器紹介 CE/LC/MSD装置「Agilent 1200-6140A」 中央研究所 杉浦 啓規
第65号台湾上村股份有限公司加工工場の紹介 市場推廣部  
第65号日本塗装協会技術賞を受賞して 中央研究所 小原 勝彦
第66号環境対応型クロムめっきの開発―三価クロムめっきの過去、現在、そして未来へ―大阪府立産業技術総合研究所 森河 務
第66号高耐食で環境に優しいクロムめっきユープロクロムCLH-1ウエムラマレーシア 村上 透、前田 亮、Suhaimi Hamid,
Nurul Aidilla,
Mohd Murshid
第66号銅ワイヤボンディング可能な銅上の新規パラジウム/金工程製品の紹介 中央研究所 染矢 立志
第66号省スペース化およびメンテナンス性向上を目的とした流通式電解再生装置 中央研究所 西條 義司、内海 雅之、山本 久光
第66号中央研究所の再構築計画 中央研究所 佐藤 誠
第66号韓国上村株式会社の新社屋の紹介 韓国上村株式会社 立川 光石
第66号海外風土事情1 台湾 中央研究所 佐藤 誠
第66号ICP-MSの新展開 高エネルギーHeコリジョンの可能性 アジレント・テクノロジー株式会社 行成 雅一
第66号テクニカルレポート編集後記「がんばろうウエムラグループ」中央研究所 佐藤 誠
第67号プリント配線板におけるめっき技術の現状と新しい基板表面改質技術 大阪市立工業研究所 藤原 裕、小林 靖之、池田 慎吾
第67号ホルムアルデヒドフリー中性無電解銅めっき液「エピタスPHP」の紹介 ―ウエハ上の電極パッドへの適用―中央研究所 中山 智晴
第67号中性無電解還元Agめっき液「アルジェントRSD-4」の紹介中央研究所 橋本 大督
第67号フッ化物フリー・高速・高耐食性の硬質クロムめっき液「ユープロクロムCHC」の紹介ウエムラマレーシア 梁田 勇
第67号海外風土事情2 シンガポール ウエムラ・シンガポール 奥田 二朗
第67号特許に関する上村工業(株)の取り組み 管理本部 法務部 才津 晴信
第67号新型FE-SEM「JSM-7800F」の紹介 日本電子(株)SM事業ユニットSM技術グループ斎藤 学、数森 啓悦、工藤 政都
第67号テクニカルレポート編集後記企業の開発における「国力」中央研究所 佐藤 誠
第68号水の中の冷たいプラズマ―ソリューションプラズマ―関東学院大学材料・表面工学研究所高井 治
第68号シアンフリー無電解置換金めっき液「エピタスTDS-25」の紹介中央研究所 柴田 利明
第68号回転ディスク電極における流速と金属イオン濃度が分極特性に与える影響 中央研究所 小原 勝彦、淺 富士夫、杉浦 裕、佟 立柱
第68号タイ大洪水からの復旧顛末記 SUM HITECHS 宮崎 繁治
第68号特許権の取得と維持に必要な費用 管理本部 法務部 才津 晴信
第68号非破壊検査・解析に活用されるX線技術 デイジ・ジャパン(株)"アプリケーションエンジニア※1テクニカルサポートエンジニア※2""岡本 慎太郎※1松永 信一郎※2"
第68号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠
第69号ファインパターンへのEPIGの特性 中央研究所 北島 晃太
第69号電気銅めっき液「スルカップEVF-YF」および電気銅めっき装置「U-VCP」の紹介 中央研究所 松田 加奈子
第69号新中央研究所の紹介 中央研究所 川上 浩、佐藤 誠
第69号海外風土事情3 韓国ソウルでの生活 韓国上村株式会社 早川 徹治
第69号「リアルタイム3DアナリティカルFIB-SEM」による材料の三次元解析 (株)日立ハイテクサイエンス 満 欣、上本 敦、麻畑 達也、鈴木 秀和、大柿 真毅、荷田 昌克、藤井 利昭
第69号製造現場を支える計測技術白色光干渉測定方式を用いた最近の計測原理と測定例の紹介ブルカー・エイエックスエス(株)ナノ表面計測事業部秋本 壮一
第69号特許に関する国際条約 管理本部 法務部 才津 晴信
第69号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠
第70号第70号 発刊にあたり 代表取締役社長 上村 寛也
第70号動的モンテカルロ法による めっきシミュレーションの基礎 京都大学大学院情報学研究科金子 豊
第70号シリコン上への無電解めっき貴金属ナノ粒子の置換析出とその応用兵庫県立大学大学院工学研究科八重 真治
第70号各種ワイヤに適合する皮膜種の選定 中央研究所 染矢 立志
第70号すずおよびすず合金めっき皮膜変色防止剤「ソフトアロイMHA-16」の紹介 中央研究所 辻本 雅宣
第70号キレート剤の特性およびその用途 中部キレスト(株)研究部 研究一課中村 淳
第70号海外風土事情4 マレーシア 枚方機械工場 金坂 淳
第70号特許出願書類の記載内容明細書管理本部 法務部 才津 晴信
第70号エレクトロニクス製品の変化と当社の製品開発に関して 経営企画部 米田 剛
第70号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠

第71号~第80号

タイトル サブタイトル 所属 所属2 執筆者
第71号これからの日本の表面処理技術高密度実装分野やエネルギー分野で重要性が高まっている関東学院大学理工学部応用化学コース小岩 一郎
第71号水溶性カチオンポリマーの特徴とその用途センカ株式会社 営業部門野崎 卓也
第71号GaAs waferへのダイレクトめっき法中央研究所神崎 翔、伊井 義人
第71号ウェハープロセスにおける自動液管理装置の紹介中央研究所北側 善章
第71号海外風土事情5 中国中央研究所霍 悦生
第71号特許出願書類の記載内容特許請求の範囲管理本部 法務部才津 晴信
第71号テクニカルレポート編集後記中央研究所佐藤 誠
第72号機能性磁性膜のウェットプロセスによる形成 奈良工業高等専門学校電気工業科藤田 直幸
第72号アルミニウムダイキャスト(ADC12材)上への無電解Ni-Pめっき 近畿大学理工学部准教授藤野 隆由
第72号新方式垂直連続搬送無電解銅めっき装置U-VSPS 中央研究所 星 俊作、内海 雅之、淺 富士夫、山本 久光
第72号ニムフロンシリーズの紹介 中央研究所 佐藤 雅亮
第72号可搬型蛍光X線分析装置 (株)堀場製作所 青山 朋樹
第72号海外風土事情6 インドネシア PT.Uyemura Indonesia 田邊 大之輔
第72号特許の先使用権について 管理本部 法務部 才津 晴信
第72号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠
第73号電気めっきによるアルミニウム皮膜の形成とその応用 京都大学大学院エネルギー科学研究科平藤 哲司、三宅 正男
第73号亜鉛めっきの機能性向上に関する研究 京都府中小企業技術センター 中村 知彦
第73号ニムデンブラックKJB-1およびMJB-1を用いた黒色皮膜形成プロセス 中央研究所 大久保 洋樹
第73号ダイレクトめっきプロセス「パラダイム」の紹介 中央研究所 岡町 琢也、米田 拓也、石田哲司、山本久光
第73号ライン管理者からみた分析 中央研究所 前田 亮
第73号蛍光X線分析法新型波長分散型蛍光X線分析装置ZSX Primus Ⅳの紹介と薄膜分析への応用例(株)リガクX線機器事業部森山 孝男
第73号特許の新規性について 管理本部 法務部 才津 晴信
第73号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 佐藤 誠
第74号粒子とめっき液の反応から複合めっきを考える 岡山大学自然科学研究科林 秀考
第74号低温点ガラスペーストを使用したチップ部品対応ニッケル/中性すずめっきプロセス 中央研究所 荒谷 真佐登
第74号硫酸銅めっき添加剤スルカップEFL-01の紹介中央研究所 生本 雷平
第74号陽極酸化と航空機材「アノダイズ」 装置技術コンサルタント 高橋 正明
第74号走査型プローブ顕微鏡とその応用 ㈱島津製作所分析計測事業部大田 昌弘
第74号海外風土事情7 タイ Sum Hitechs Co., Ltd. 筑間 光靖
第74号テクニカルレポート編集後記 中央研究所 小田 幸典